JGS1光學(xué)玻璃鏡片-呂梁石英-諾立光學(xué)

如何對(duì)不同材質(zhì)的光學(xué)鏡片選擇對(duì)應(yīng)的拋光粉

光學(xué)鏡片經(jīng)過(guò)研磨液細(xì)磨后，其表面尚有厚約 2–3 m 的裂痕層，要消除此裂痕層的方法即為拋光。拋光與研磨的機(jī)制一樣，唯其所使用的工具材質(zhì)與拋光液 (slurry) 不同，拋光所使用的材料有絨布 (cloth)、拋光皮 (polyurethane) 及瀝青 (pitch)，通常要達(dá)到的拋光面，常使用的材料為拋光瀝青。 

拋光與研磨所用的運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)相同，除了拋光的工具與工作液體不一樣外，拋光時(shí)所需環(huán)境條件亦較研磨時(shí)嚴(yán)苛。一般拋光時(shí)要注意的事項(xiàng)如下：  

拋光瀝青的表面與拋光液中不可有雜質(zhì)，不然會(huì)造成鏡面刮傷。  

拋光瀝青表面要與鏡片表面吻合，否則拋光時(shí)會(huì)產(chǎn)生跳動(dòng)，因而咬持拋光粉而刮

由于電子信息產(chǎn)業(yè)中涉及的半導(dǎo)體和光纖生產(chǎn)工藝，石英玻璃消耗大量石英板，環(huán)，板，法蘭，溝槽船，擴(kuò)散爐管，清洗槽，大尺寸石英坩堝，纖維光學(xué)套管，保持棒等石英材料，對(duì)國(guó)內(nèi)天然高純石英材料的需求和技術(shù)提出了新的要求，為石英玻璃材料和制品行業(yè)帶來(lái)了巨大的發(fā)展，肯定會(huì)推動(dòng)石英玻璃材料和制品業(yè)的發(fā)展。質(zhì)量和數(shù)量穩(wěn)步增長(zhǎng)。據(jù)稱，電子信息產(chǎn)業(yè)正在發(fā)展中。作為電子信息的基礎(chǔ)材料，石英玻璃鏡片，石英材料將在未來(lái)5 - 10年內(nèi)迎來(lái)新的高潮。石英材料在高科技產(chǎn)業(yè)中將逐漸變得越來(lái)越重要。支持材料。

光學(xué)玻璃的精密拋光的化學(xué)穩(wěn)定性

光學(xué)玻璃元件在制造和使用過(guò)程中，jgs1石英，其拋光表面抵抗各種侵蝕性介質(zhì)作用的能力稱為光學(xué)玻璃的化學(xué)穩(wěn)定性。

1 抗潮濕大氣作用穩(wěn)定性RC（S）(表面法)

根據(jù)對(duì)潮濕大氣作用的穩(wěn)定性，分為三級(jí)：

1級(jí)—在溫度50℃，相對(duì)濕度80％的條件下，呂梁石英，光學(xué)玻璃拋光表面形成水解斑點(diǎn)的時(shí)間超過(guò) 20h；

2級(jí)—在相同試驗(yàn)條件下，形成水解斑點(diǎn)的時(shí)間在5h～20h之間； 3級(jí)--在相同試驗(yàn)條件下，形成水解斑點(diǎn)的時(shí)間不到5h。

光學(xué)玻璃

2抗酸作用穩(wěn)定性RA（S）(表面法)

根據(jù)對(duì)酸溶液作用的穩(wěn)定性，分為三級(jí)：

1級(jí)—在0.1N、溫度50℃醋l酸溶液作用下，光學(xué)玻璃拋光表面的破壞深度達(dá)135nm的時(shí)間 超過(guò)5h；

2級(jí)—在相同試驗(yàn)條件下，破壞深度達(dá)135nm的時(shí)間在1h～5h； 3級(jí)--在相同試驗(yàn)條件下，破壞深度達(dá)135nm的時(shí)間不到1h。

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