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發布時間:2024-10-11 00:44  





旋轉噴淋清洗是浸入型清洗的變型。系統中一般包括自動配液系統、清洗腔體、廢液回收系統。
噴淋清洗在一個密封的工作腔內一次完成化學清洗、去離子水沖洗、旋轉甩干等過程,減少了在每一步清洗過程中由于人為操作因素造成的影響。在噴淋清洗中由于旋轉和噴淋的效果,使得硅片表面的溶液更加均勻,秦皇島單工位噴淋清洗機定做,同時,接觸到硅片表面的溶液永遠是新鮮的,手動單工位噴淋清洗機定做,這樣就可以做到通過工藝時間設置,控制硅片的清洗腐蝕效果,實現很好的一致性。密封的工作腔可以隔絕化學液的揮發,減少溶液的損耗以及溶液蒸氣對人體和環境的危害。各系統分別貯于不同的化學試劑,在使用時到達噴口之前才混合,使其保持鮮,以發揮潛力,這樣在清洗時會反應快。用N2噴時使液體通過很小的噴口,使其形成很細的霧狀,至硅片表面達到更好的清洗目的。

高壓噴淋清洗機
概述
為各企業量身定制非標高壓噴淋清洗機,高壓噴淋清洗線,使用單相380V電源,全自動單工位噴淋清洗機定做,不間斷工作。適用于各個行業的拉伸件、壓鑄件清洗作業。可以加裝電加熱系統,可以設置恒溫裝置,廣泛用于:水槽行業、五金制品行業、行業、汽車零件行,手動單工位噴淋清洗機定做,電飯煲行業、成本低廉。高壓噴淋清洗機特點編輯1.速度快,效果統一,內槽和外槽全不銹鋼。2.具有清洗液噴洗、清水噴淋漂洗、風機吹水、熱風吹干等功能的新穎連續式清洗設備。3.儀器工作時間,溫度,功率(可調)。4.它對生產效率大大提高,節約成本。
此方法適用于除去氧化膜或有機物。因為化學物質在硅片表面停留的時間比較短,對反應需要一定時間的清洗效果不好。在噴洗過程中所使用的化學試劑很少,對控制成本及環境保護有利。
隨著集成電路制程工藝節點越來越,對實際制造的幾個環節也提出了新要求,清洗環節的重要性日益凸顯。
清洗的關鍵性則是由于隨著特征尺寸的不斷縮小,半導體對雜質含量越來越敏感,而半導體制造中不可避免會引入一些顆粒、有機物、金屬和氧化物等污染物。為了減少雜質對芯片良率的影響,實際生產中不僅僅需要提高單次的清洗效率,還需要在幾乎所有制程前后都頻繁的進行清洗,清洗步驟約占整體步驟的33%。


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