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真空鍍膜主要分為裝飾鍍和功能鍍膜兩大類。真空鍍膜在顏色多樣性、結(jié)構(gòu)設(shè)計、性能多樣性及應(yīng)用領(lǐng)域等方面不斷突破。真空鍍膜膜層的結(jié)構(gòu)設(shè)計也日趨復(fù)雜。從傳統(tǒng)的單一膜層到多層的復(fù)合，提升了膜層的各項性能。應(yīng)用領(lǐng)域的突破，除了用于傳統(tǒng)手表、首飾、手機等用于裝飾外，PVD真空鍍膜在、航天航空、新能源汽車等多個領(lǐng)域得到迅速的發(fā)展。

真空鍍膜加工流程較長，首先需要對將要進行鍍膜的產(chǎn)品進行外觀檢驗，將有瑕疵的產(chǎn)品挑出，因為真空鍍膜加工的膜層是納米級薄膜，無法覆蓋產(chǎn)品表面的外觀瑕疵。清洗上架，為了避免后制程對產(chǎn)品外觀造成二次損傷，所有產(chǎn)品使用治具上架，防止貨品之間，貨品與其他物品之間造成碰撞，為清洗做準(zhǔn)備；清洗，產(chǎn)品會經(jīng)過打磨、噴砂等處理、再加之運輸防護、操作等，表面會殘留臘屎、油污、灰塵、膠印等臟污，需要除油除蠟處理；入爐上架，將產(chǎn)品上架至適合爐體的治具上，為入爐鍍膜做準(zhǔn)備；真空鍍膜加工環(huán)節(jié)，即在爐內(nèi)沉積過程；對真空鍍膜加工產(chǎn)品進行外觀全檢；包裝，對真空鍍膜加工后產(chǎn)品進行防護。

摩擦系數(shù)較低，耐腐蝕性較好，耐磨性和抗沖擊性良好。陰極電弧離子鍍具有高的靶電離率和強的膜基鍵合力的優(yōu)點，但是在沉積過程中產(chǎn)生了許多大顆粒，這影響了膜的表面粗糙度。磁控濺射具有成膜粗糙度小，無大顆粒，光滑均勻的特點。然而，反應(yīng)磁控濺射具有高反應(yīng)性氣體或金屬靶的電離率，并且所獲得的膜往往具有許多空隙和缺陷，這傾向于導(dǎo)致不充分和致密的膜結(jié)構(gòu)和差的耐腐蝕性。目前，兩種技術(shù)主要用于去除大顆粒污染。第二種是在運輸過程中對液體顆粒進行磁過濾。過濾陰極真空電弧沉積是一種磁場，引導(dǎo)等離子體繞過障礙物，而大顆粒由于電中性而與障礙物碰撞，從而去除大顆粒并避開薄膜。

鍍膜應(yīng)用，簡單地理解就是在真空環(huán)境下，利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結(jié)的辦法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導(dǎo)體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。成膜有很多優(yōu)點：可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質(zhì)的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。薄膜和基體選材廣泛，薄膜厚度可進行控制，以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。