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              發(fā)布時(shí)間:2020-12-19 17:30  

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              主要工藝:目前,物理氣相沉積(PVD)技術(shù)主要包括真空陰極弧物理蒸發(fā)、真空磁控離子濺射、離子鍍以及增強(qiáng)濺射四種。①陰極弧物理蒸發(fā)(ARC):真空陰極弧物理蒸發(fā)過程包括將高電流,低電壓的電弧激發(fā)于靶材之上,并產(chǎn)生持續(xù)的金屬離子。被離化的金屬離子以60-100eV平均能量蒸發(fā)出來形成高度激發(fā)的離子束,在含有惰性氣體或反應(yīng)氣體的真空環(huán)境下沉積在被鍍工件表面。真空陰極弧物理蒸發(fā)靶材的離化率在90%左右,所以與真空磁控離子濺射相比,沉積薄膜具有更高的硬度和更好的結(jié)合力。



              但由于金屬離化過程非常激烈,會(huì)產(chǎn)生較多的有害雜質(zhì)顆粒,涂層表面較為粗糙。②磁控離子濺射(SPUTTERING):真空磁控離子濺射過程中,ya離子被被加速打在加有負(fù)電壓的陰極(靶材)上。離子與陰極的碰撞使得靶材被濺射出帶有平均能量4-6eV的金屬離子。這些金屬離子沉積在放于靶前方的被鍍工件上,形成涂層薄膜。由于金屬離子能量較低,涂層的結(jié)合力與硬度也相應(yīng)較真空陰極弧物理蒸發(fā)方式差一些,但由于其表面質(zhì)量?jī)?yōu)異被廣泛應(yīng)用于有表面功能性和裝飾性的涂層領(lǐng)域中。



              在鋅液中添加鋅鎳合金可有效地降低鋅和鐵原子在ζ相中的擴(kuò)散速度,因而可以控制浸鍍層厚度的增長(zhǎng),當(dāng)鋅液中Ni含量為0.06%時(shí),Ni含量可達(dá)0.8%,加入Ni后厚度增長(zhǎng)明顯得到控制,因而可有效地控制浸鍍層厚度的增長(zhǎng),并能改善鋅液的流動(dòng)性能。因此,使用鋅鎳合金進(jìn)行熱浸鍍鋅的鍍層厚度更加均勻,表面更光亮,鋅花少。

              總之,熱鍍鋅后帶鋼表面缺陷情況較復(fù)雜,產(chǎn)生的原因也較多,解決辦法是多方面的,需要做大量艱若細(xì)致的工作,使熱鍍技木提高一步。


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