中頻離子鍍膜機廠家優(yōu)惠報價 至成鍍膜機制造廠家

真空鍍膜的膜層厚度如何測量？

在使用真空鍍膜機鍍膜之后，為了需要可能會要測量膜層的厚度，測量膜層的厚度用什么方法呢?

直接的鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法(QCM)，這種儀器可以直接驅動蒸發(fā)源，通過PID控制循環(huán)驅動擋板，保持蒸發(fā)速率。

只要將儀器與系統(tǒng)控制軟件相連接，它就可以控制整個的鍍膜過程。但是(QCM)的精準度是有限的，部分原因是由于它監(jiān)控的是被鍍膜的質量而不是其光學厚度。

此外雖然QCM在較低溫度下非常穩(wěn)定，但溫度較高時，它會變得對溫度非常敏感。在長時間的加熱過程中，很難阻止傳感器跌入這個敏感區(qū)域，從而對膜層造成重大誤差。

光學監(jiān)控是高精密鍍膜的的優(yōu)選監(jiān)控方式，這是因為它可以更精準地控制膜層厚度(如果運用得當)。

精準度的改進源于很多因素，但根本的原因是對光學厚度的監(jiān)控。

真空鍍膜機離子鍍是什么?

很多人聽說過離子真空鍍膜機，但是對于真空鍍膜機離子鍍了解甚少，離子鍍是一種鍍膜工藝中的一種，下面為大家詳細介紹一下：首先給大家它定義：蒸發(fā)物質的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面，稱為離子鍍。離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術的結合。

它的原理是：蒸發(fā)源接陽極，工件接陰極，當通以三至五千伏高壓直流電以后，蒸發(fā)源與工件之間產(chǎn)生輝光放電。由于真空罩內充有惰性Ar氣，在放電電場作用下部分Ar氣被電離，從而在陰極工件周圍形成一等離子暗區(qū)。帶正電荷的Ar離子受陰極負高壓的吸引，猛烈地轟擊工件表面，致使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出，從而使工件待鍍表面得到了充分的離子轟擊清洗。隨后，接通蒸發(fā)源交流電源，蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā)，進入輝光放電區(qū)并被電離。帶正電荷的蒸發(fā)料離子，在陰極吸引下，隨同Ar離子一同沖向工件，當拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子超過濺失離子的數(shù)量時，則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。

它能分為四類：①磁控濺射離子鍍。②反應離子鍍。③空心陰極放電離子鍍。④多弧離子鍍。

它的特點：鍍層附著性能好，對離子鍍后的試件作拉伸試驗表明，一直拉到快要斷裂時，鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸，無起皮或剝落現(xiàn)象發(fā)生；繞鍍能力強，因此這種方法非常適合于鍍復零件上的內孔、凹槽和窄縫，等其他方法難鍍的部位；鍍層質量好，離子真空鍍膜機鍍膜的鍍層組織致密、無孔、無氣泡、厚度均勻；清洗過程簡化。

真空鍍膜機PVD鍍膜常規(guī)知識介紹

真空鍍膜機PVD技術可以應用到海上用品、首飾、工藝品、門窗五金、廚衛(wèi)五金、燈具、海上用品、首飾、工藝品，及其它裝飾性制品的加工制造，應用是非常的廣泛，很多客戶采購設備時，對這方面的相關知識也是非常的感興趣，今天至成真空小編，為大家介紹一下真空鍍膜機PVD鍍膜常規(guī)知識，希望能幫助大家提升相關知識和技能。

PVD鍍膜(離子鍍膜)技術，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質及其反應產(chǎn)物沉積在工件上。

PVD鍍膜膜層的特點,采用PVD鍍膜技術鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系數(shù))、很好的耐腐蝕性和化學穩(wěn)定性等特點，膜層的壽命更長;同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。

真空鍍膜機PVD鍍膜技術目前主要應用的行業(yè),PVD鍍膜技術的應用主要分為兩大類：裝飾鍍膜和工具鍍膜。裝飾鍍的目的主要是為了改善工件的外觀裝飾性能和色澤同時使工件更耐磨耐腐蝕延長其使用壽命;這方面主要應用五金行業(yè)的各個領域，如門窗五金、鎖具、衛(wèi)浴五金等行業(yè)。工具鍍的目的主要是為了提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系數(shù)，提高工件的使用壽命;這方面主要應用在各種刀剪、車削刀具(如車刀、刨刀、銑刀、鉆頭等等)、各種五金工具(如螺絲刀、鉗子等)、各種模具等產(chǎn)品中