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發布時間:2024-09-04 03:16  








感應加熱式蒸發鍍膜
利用高頻電磁場感應加熱,使材料汽化蒸發在基片表面凝結成膜的技術。
優點蒸發速率大,可比電阻蒸發源大10倍左右 蒸發源的溫度穩定,不易產生飛濺現象坩堝溫度較低,坩堝材料對膜導污染較少缺點蒸發裝置必須屏蔽造價高、設備復雜
在真空中,高能粒子轟擊材料表面,使其原子獲得足夠的能量而逸出表面,真空不銹鋼鍍鈦哪家好,到達襯底凝結成膜的技術。
與真發鍍膜相比,濺射鍍膜適用于所有(包括高熔點)材料,具有附著力強、成分可控、易于規模化生產等優點。
但其工作氣壓低于蒸發鍍膜,因此膜層的含氣量和孔隙率大于蒸發鍍膜。
PVD(Physical Vapor Deition),在真空條件下,采用物理方法,使材料源表面氣化成原子、分子或離子,在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術。PVD主要分為蒸鍍、濺射和離子鍍三大類。
蒸發鍍膜
真空條件下,將鍍料加熱蒸發或升華,材料的原子或分子直接在襯底上成膜的技術。根據加熱方法的不同主要有以下幾種蒸發鍍膜技術。
采用電阻加熱蒸發源的蒸發鍍膜技術,一般用于蒸發低熔點材料,金屬表面不銹鋼鍍鈦哪家好,如鋁、金、銀、硫化鋅、氟化鎂、三氧化二鉻等;加熱電阻一般采用鎢、鉬、鉭等。

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