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一六 熒光測厚儀 十年以上研發團隊 集研發生產銷售一體

元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U)   厚度分析范圍:各種元素及有機物

一次可同時分析:23層鍍層,24種元素 厚度檢出限:0.005um

X射線熒光鍍層厚度分析儀基本原理

X射線熒光就是被分析樣品在X射線照射下發出的X射線，它包含了被分析樣品化學組成的信息，通過對X射線熒光的分析確定被測樣品中各組分含量的儀器就是X射線熒光分析儀。由原子物理學的知識，對每一種化學元素的原子來說，都有其特定的能級結構，其核外電子都以其特有的能量在各自的固定軌道上運行。內層電子在足夠能量的X射線照射下脫離原子的束縛，成為自由電子，這時原子被激發了，處于激發態。此時，其他的外層電子便會填補這一空位，即所謂的躍遷，同時以發出X射線的形式放出能量。準直器任意選擇或者任意切換最近測距光斑擴散度：9%測量距離：具有距離補償功能，可改變測量距離，能測量凹凸異型樣品，變焦距離0-30mm(特殊要求可以升級到90mm)樣品觀察：1/2。

由于每一種元素的原子能級結構都是特定的，它被激發后躍遷時放出的X射線的能量也是特定的，稱之為特征X射線。通過測定特征X射線的能量，便可以確定相應元素的存在，而特征X射線的強弱（或者說X射線光子的多少）則代表該元素的含量。

一六儀器 專業測厚儀 多道脈沖分析采集,先進EFP算法  X射線熒光鍍層測厚儀

應用于電子元器件,LED和照明,家用電器,通訊,汽車電子領域.EFP算法結合精準定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業界難題

薄膜是指在基板的垂直方向上所堆積的1～104的原子層或分子層。在此方向上，薄膜具有微觀結構。

     理想的薄膜厚度是指基片表面和薄膜表面之間的距離。由于薄膜僅在厚度方向是微觀的，其他的兩維方向具有宏觀大小。所以，表示薄膜的形狀，一定要用宏觀方法，即采用長、寬、厚的方法。因此，膜厚既是一個宏觀概念，又是微觀上的實體線度。

      由于實際上存在的表面是不平整和連續的，而且薄膜內部還可能存在著、雜質、晶格缺陷和表面吸附分子等，所以，要嚴格地定義和測量薄膜的厚度實際上是比較困難的。膜厚的定義應根據測量的方法和目的來決定。  

經典模型認為物質的表面并不是一個抽象的幾何概念，而是由剛性球的原子（分子）緊密排列而成，是實際存在的一個物理概念。

形狀膜厚：dT是接近于直觀形式的膜厚，通常以um為單位。dT只與表面原子（分子）有關，并且包含著薄膜內部結構的影響；

質量膜厚：dM反映了薄膜中包含物質的多少，通常以μg/cm2為單位，它消除了薄膜內部結構的影響（如缺陷、、變形等）；

物性膜厚：dP在實際使用上較有用，而且比較容易測量，它與薄膜內部結構和外部結構無直接關系，主要取決于薄膜的性質（如電阻率、透射率等）。

江蘇一六儀器  X射線熒光光譜測厚儀

性能特點

滿足各種不同厚度樣品以及不規則表面樣品的測試需求

φ0.1mm的小孔準直器可以滿足微小測試點的需求

移動平臺可定位測試點，重復定位精度小于0.005mm

采用高度定位激光，可自動定位測試高度

定位激光確定定位光斑，確保測試點與光斑對齊

鼠標可控制移動平臺，鼠標點擊的位置就是被測點

高分辨率探頭使分析結果更加精準

良好的射線屏蔽作用

測試口高度敏感性傳感器保護

     江蘇一六儀器一家專注于光譜分析儀器研發、生產、銷售的高新技術企業。我們專業的研發團隊具備十年以上的從業經驗，經與海內外多名通力合作，研究開發出一系列能量色散X熒光光譜儀。穩定的多道脈沖分析采集系統、先進的解譜方法和EFP算法結合精準定位及變焦結構設計，解決了各種大小異形、多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業界難題。性價比高：相比化學分析類儀器，X熒光光譜儀在總體使用成本上有優勢的，可以讓更多的企業和廠家接受。

   x射線熒光膜厚測厚儀還應用于五金電鍍厚度檢測，首飾電鍍厚度檢測，電子連接件表層厚度檢測，電鍍液含量分析。電力行業高壓開關柜用銅鍍銀件厚度檢測，銅鍍錫件厚度檢測，航空材料金屬鍍層厚度檢測。銅箔鍍層厚度檢測，光伏行業焊帶銅鍍錫鉛合金厚度檢測，鐵鍍鉻 鍍鋅 鍍鎳厚度檢測等。只要用于相同的組成和同樣或已知密度的覆蓋層，規定以厚度為單位（而不是單位面積質量）的標準塊，將是可靠的。