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              鍵盤真空鍍膜-菱威納米(在線咨詢)-河源鍍膜

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              發布時間:2024-04-16 03:19  










              1.派瑞林真空鍍膜是一種在高真空下加熱金屬或非金屬材料,使其在被鍍膜件(金屬、半導體或絕緣體)表面蒸發凝結形成薄膜的方法。如真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

              2.光學鍍膜是指在光學零件表面涂覆一層(或多層)金屬(或電介質)薄膜的工藝過程。光學零件表面鍍膜的目的是為了滿足減少或增加光反射、分束、分色、濾光和偏振的要求。常用的涂膜方法有真空涂膜(物理涂膜之一)和化學涂膜。




                     鍍燈具鋁膜。因為是金屬膜,當然是直流磁控濺射好。速度快。中頻適合鍍化合物膜。如果選離子源,霍爾離子源就夠了。但要注意燈具大小。一般霍爾離子源是圓形,離子源覆蓋的面積有限。你一定要用離子束將工件全部覆蓋到。若普通霍爾離子源太小,可考慮用陽極層離子源。離子源難起輝的一個原因是磁場太弱激發不起等離子體。離子源的種類雖多,鍵盤真空鍍膜,但基本上是先產生等離子體,然后從等離子體中抽出氣體離子并加速成離子束,讓后視需要注入電子中和離子流。


                      派瑞林(Parylene)可以增加鐵氧體等磁性材料的介電性及耐高壓性能,可以克服普通環氧樹脂噴涂等其他涂層工藝處理后不耐磨,不耐酸堿等方面的嚴重缺陷。其工藝特點:派瑞林(Parylene)涂層物料經蒸發室汽化后進入裂解室后裂解為氣體,氣體進入沉積室,通過沉積室,即物體表面均勻包覆所述派瑞林層。派瑞林(Parylene)真空氣相沉積工藝和磁體覆膜工藝,降低磁體表面的氧化能力,磁性材料鍍膜,提高磁體的抗蝕性,河源鍍膜,相比電鍍磁體工藝,該鍍膜工藝使磁通損失率降低至現有覆膜工藝的50%,且降低了毛坯生產的成本。從而降低企業生產成本,提高產品性能。


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