多槽超聲波清洗機-巴克超聲波-清洗機

噴淋臂旋轉無阻礙：測試噴淋臂確保旋轉順滑均勻。   ? 清洗機底部排水篩無雜物：清洗機底部的排水篩會留滯來自器械組的污染物。應至少每天取下篩網并清洗，或根據使用次數增加清洗頻率。阻塞的篩網會阻礙水流和排水，從而影響清洗機的清洗效力。   ? 器械架聯軸器與歧管正確對齊。確保清洗機水/清洗液進口與清洗架歧管正確對齊，如果沒有對齊，多槽超聲波清洗機，水流、水分布及水壓都會受到影響，清洗機，并且都可能導致清洗機運行不正常。水壓不足會導致噴淋臂無法正常運轉，還會削弱機械清洗作用。

濟南巴克超聲波科技有限公司是一家從事工業清洗設備的研發、制造、銷售為一體的高新技術企業，總部位于濟南市臨港開發區，碳氫清洗機，標準化廠房面積13000余平方米。員工人數：150余人，超聲波清洗機廠家，擁有工程技術人員20余人，新設備研發人員：10余人，售后人員：10余人。年產值4000多萬元。

旋轉噴淋清洗機簡介

旋轉噴淋清洗機

1.旋轉噴淋清洗機帶有過濾裝置的設備，在使用過程中應定期更換過濾芯；，這樣才能保證設備的額使用壽命；

2.無電加熱檢查電源，溫度控制器設定是否在正常位置，檢查相關的水位開關，檢查電熱器是否失效；更換失效組件；

此方法適用于除去氧化膜或有機物。因為化學物質在硅片表面停留的時間比較短，對反應需要一定時間的清洗效果不好。在噴洗過程中所使用的化學試劑很少，對控制成本及環境保護有利。

隨著集成電路制程工藝節點越來越先進，對實際制造的幾個環節也提出了新要求，清洗環節的重要性日益凸顯。

清洗的關鍵性則是由于隨著特征尺寸的不斷縮小，半導體對雜質含量越來越敏感，而半導體制造中不可避免會引入一些顆粒、有機物、金屬和氧化物等污染物。為了減少雜質對芯片良率的影響，實際生產中不僅僅需要提高單次的清洗效率，還需要在幾乎所有制程前后都頻繁的進行清洗，清洗步驟約占整體步驟的33%。

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