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              日本減薄機(jī)推薦「凱碩恒盛」

              發(fā)布時(shí)間:2021-08-08 22:09  

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              影響誠薄機(jī)誠薄硅片平整度的因素有哪些?

              要保證硅片厚度的一致性。因?yàn)楫?dāng)研磨時(shí),由于磨料分布不均勻,使得行星齒輪片_上、下硅片研磨速度也會(huì)不一樣,所以要想保證硅片的減薄速度一樣,就必須在每研磨到一定時(shí)間時(shí)將行星齒輪片翻轉(zhuǎn)后再進(jìn)行研磨,從而確保硅片厚度的一致性,同時(shí)也讓硅片厚度公差得以縮小,具體要研磨多久才進(jìn)行翻車專為適當(dāng),是要根據(jù)減薄厚度和測(cè)試結(jié)果來定的。

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              誠薄機(jī)對(duì)晶片誠薄的必要性及作用?

              根據(jù)制造工藝的要求來講,目前對(duì)晶片的尺寸、幾何精度、表面潔凈度以及表面微晶結(jié)構(gòu)提出了較高的要求,因此,在制造工藝的過程中減薄機(jī)對(duì)晶片減薄是相對(duì)不可缺少的一部分。那么,關(guān)于晶片減薄的必要性及作用具體體現(xiàn)哪些方面呢?

              1.提高芯片的散熱性能要求

              在集成電路中,由于硅基體材料及互聯(lián)金屬層存在電阻,在電流的作用下,芯片要產(chǎn)生的發(fā)熱現(xiàn)象。而在芯片工作的過程中,由于部分熱量的產(chǎn)生,使得芯片背面產(chǎn)生內(nèi)應(yīng)力。芯片熱量逐漸升高,基體層之間的熱差異性加劇,這無疑加大了芯片的內(nèi)應(yīng)力。較大的內(nèi)應(yīng)力使芯片生產(chǎn),這是芯片損壞的主要原因之一。因此,只有通過減薄機(jī)對(duì)晶片背面進(jìn)行減薄,才可以降低芯片熱阻,有效提高芯片的散熱性能,從而降低了芯片破損的風(fēng)險(xiǎn),提高了集成電路的可靠性。2.集成電路制造工藝要求

              通過對(duì)晶片減薄工藝后,使其更加有利芯片分離,在一定程度上提高了劃片的質(zhì)量以及成品率。在許多集成電路制造領(lǐng)域內(nèi),大家對(duì)集成電路芯片超薄化的要求是越來越高,要想得到高質(zhì)量的超薄芯片,我們就必須通過晶片減薄工藝的方式從而獲取。

              通過以上兩點(diǎn)可以得出,只有通過減薄機(jī)對(duì)晶片減薄,才能更好的保證芯片的厚度及尺寸等方面的要求,這也足夠充分的體現(xiàn)了晶片減薄工藝的重要性。


              減薄機(jī)設(shè)備組成

              北京凱碩恒盛科技有限公司主營(yíng)項(xiàng)目:雙面研磨機(jī),內(nèi)圓磨床,外圓磨床,減薄機(jī),軸承磨加設(shè)備,汽車零部件磨床,砂輪,刀具等。

              減薄機(jī)本設(shè)備主要用于硅片、陶瓷、玻璃、石英晶體、藍(lán)寶石、其他半導(dǎo)體材料等非金屬和金屬的脆硬性材料精密零件的高速減薄。由工件吸盤,吸盤主軸及驅(qū)動(dòng)器組件,砂輪,砂輪主軸及驅(qū)動(dòng)組件,絲桿導(dǎo)軌進(jìn)給組件及其他輔助配件構(gòu)成。



              立式減薄機(jī)IVG-200S

              設(shè)備概述:

              名稱: 立式減薄機(jī)

              型號(hào): IVG-200S

              該設(shè)備采用立式主軸結(jié)構(gòu),工作時(shí)磨盤與工件盤同時(shí)旋轉(zhuǎn),磨盤的進(jìn)給采用微米步進(jìn)電機(jī)進(jìn)給系統(tǒng),磨盤采用杯式金剛石磨盤,不但加工精度高,而且加工效率很高,為普通研磨效率的10倍以上。該系列設(shè)備廣泛應(yīng)用各類半導(dǎo)體晶片、壓電晶體、光學(xué)玻璃、陶瓷、藍(lán)寶石襯底、FDD表面、電子過濾器、碳化硅等材料的超精密平面加工。




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