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微弧氧化技術的發展

       微弧氧化技術是北京師范大學核科學與技術學院（低能核物理研究所）（北京市輻射中心）1992年起開發的科研課題，先后得到國家教委、國家九五863高技術研究發展計劃、國家自然科學基jin的大力支持。對比陽極氧化，微弧氧化主要不足在于顏色系列較少，但其增加了電泳涂裝工藝后的微弧復合處理工藝（MCC），可以很好地改善顏色單一的問題。1997-1998年完成國家“863”計劃項目“等離子體微弧氧化表面改性技術”，1997年12月“鋁合金微弧氧化技術”通過國家教委和863組的聯合鑒定。2002年微弧氧化設備獲得國家重點新產品證書，2004年微弧氧化雙極性大功率脈沖電源獲得發明專利。微弧氧化技術、微弧氧化生產線、微弧氧化電源

       微弧氧化除了所需電功率較大之外，微弧氧化工藝實際上并不算復雜，所使用的gui酸鹽、磷酸鹽、硼酸鹽等電解質是環保無毒的，對鋁材的要求也不高，不管是 6000系的航空級鋁材，還是難以陽極氧化的含銅、含gui鋁材都可以進行微弧氧化，并且能得到理想的陶瓷結晶層。微弧氧化處理的輕金屬表面形成一層膜，具有很好的耐磨耐腐蝕的特性。微弧氧化在處理過程中會自動對制品表面進行拋光處理，一些粗糙的制品表面可以修復得平整光滑，在一定程度上也節省了后期成本。

       微弧氧化的原理

       微弧氧化通過讓氧與鋁結合，使鋁合金（輕質但硬度、耐蝕性不足）表面原位生成一層氧化鋁陶瓷，使其表面變得質硬且耐蝕，進而達到了延長材料使用壽命的目的。同時由于是在電解液中，熔融物將瞬間冷凝，在基體表面生成一層陶瓷。同時，微弧電子學又是一種新型‘塑形’技術，通過負電性等離子體對材料進行納米尺度選取剝離，實現以非接觸式方式加工出精密零件，具有廣闊的應用前景。微弧氧化技術、微弧氧化生產線、微弧氧化電源

微弧氧化膜層的性能能夠達到何種程度？

       一般來講，微弧氧化膜層是瞬間高溫下生成的內部致密的陶瓷層，膜層均具有良好的膜基結合力、硬度、耐磨耐腐蝕特性、高的絕緣性及耐高溫氧化性能等。但是不同材料不同溶液不同工藝下制備的膜層性能也有差異。反應的高溫將使膜層發生熔融，基體元素由于處在富氧環境中，將形成氧化物。如，一般情況下，鋁表面制備的膜層比鎂合金表面制備的膜層具有更高的硬度和耐磨性，因為從生成物來看，氧化鋁硬度及耐磨性均高于氧化鎂，鋁表面氧化膜硬度高可以達到HV3000。但是通常單純考慮這種極限性能并不可取，如單純提高膜層的硬度，可能需提高膜層厚度，降低膜基結合力，對膜層整體性能不利。因此，一般很少單獨強調某種性能。只是如果有特殊要求，可以提出，整體加以調制，在滿足特殊需求的基礎上使膜層整體具有良好性能。如，某鎂合金需要耐蝕，可以根據需求對膜層厚度、溶液成分等進行調制，滿足耐蝕400小時、600小時等特殊需求。