微弧氧化技術(shù)要求聯(lián)系方式 日照微弧

微弧氧化技術(shù)的特點(diǎn)

1、大幅度地提高了材料的表面硬度，顯微硬度在 1000 至 2000hv ，高可達(dá) 3000hv ，可與硬質(zhì)合金相媲美，大大超過熱處理后的高碳鋼、高合金鋼和高速工具鋼的硬度；

2、有良好的絕緣性能，絕緣電阻可達(dá) 100m ω。

3、溶液為環(huán)保型，符合環(huán)保排放要求。

4、工藝穩(wěn)定可靠 , 設(shè)備工藝簡單， 。

5、 反應(yīng)在常溫下進(jìn)行，操作方便，易于掌握。

        微弧氧化膜具有特殊的多孔質(zhì)結(jié)構(gòu)，使得它在金屬材料功能化方面有著巨大的應(yīng)用潛力，如在微弧氧化膜的細(xì)孔中填充潤滑性物質(zhì)，可以作為性能優(yōu)良的減摩抗磨材料。影響微弧氧化膜生長和性能的因素很多，有待于系統(tǒng)而深入地研究，以弄清楚各因素對膜性能的影響規(guī)律，使得不同性能要求下的微弧氧化工藝更具有可重現(xiàn)性。陽極氧化工藝中所產(chǎn)生的污染物較多，在倡導(dǎo)環(huán)保的大環(huán)境下企業(yè)又要兼顧自身成本，由此陽極氧化的處境可謂是岌岌可危。　微弧氧化電源、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線

溶液溫度濃度對微弧氧化膜層性能的影響

       1、微弧氧化溶液溫度低時(shí)，氧化膜的生長速度較快，膜致密，性能較佳。但溫度過低時(shí)，氧化作用較弱，膜厚和硬度值都較低。

       2、微弧氧化溶液溫度過高時(shí)，堿性電解液對氧化膜的溶解作用增強(qiáng)，致使膜厚與硬度顯著下降，且溶液易飛濺，膜層也易被局部燒焦或擊穿。所謂以微弧氧化溶液的溫度一定要控制好，這樣才可以提高微弧氧化膜層的性能。

       3、溶液酸堿度：酸堿度過大或過小，溶解速度都加快，氧化膜生長速度減慢，所以一般選擇弱堿性溶液。

       4、溶液濃度：溶液濃度對氧化膜的成膜速率、表面顏色和粗糙度都有影響。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源

     微弧氧化的起源

       微弧氧化(MAO)是一種在輕金屬表面原位生長陶瓷氧化膜的新技術(shù)。美國五十年代在某些兵工廠開始研究陽極火花沉積,前蘇聯(lián)從七十年代中期開始獨(dú)立研究微弧氧化且具較高水平,八十年代中、后期以來微弧氧化研究已成為國際研究熱點(diǎn)并開始應(yīng)用,九十年代初國內(nèi)開始起步。微弧氧化在航空、航天、機(jī)械、電子、裝飾等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用前景。微弧電泳復(fù)合膜層的附著力等級為1級，相對于直接電泳有機(jī)層的附著力有很大提高。（壓鑄件氧化，鋁鎂合金硬質(zhì)氧化，硬質(zhì)氧化）微弧氧化技術(shù)原理、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源