激光脈沖沉積裝置價格多重優惠「多圖」

脈沖激光沉積簡介

沈陽鵬程真空技術有限責任公司——專業脈沖激光沉積供應商，我們為您帶來以下信息。

【設備主要用途】

PLD450A型脈沖激光沉積設備采用PLD脈沖激光沉積技術，用于制備高溫超導薄膜、半導體膜、鐵電薄膜、硬質薄膜以及微電子和光電子用多元氧化物薄膜及異質結，也可用于制備氮、碳、硅化合物及各種有機—無機復合材料薄膜及金剛石薄膜等。

【設備優點】

設備全程采用一鍵式操作抽氣，關機，程序自動化定時操作。避免了繁瑣的角閥，插板閥人工開啟。

【設備主要組成】

設備由沉積腔室（單室球形或圓筒形）、樣品加熱轉臺、激光入射轉靶、激光窗、電源控制系統、激光束掃描系統、計算機控制轉靶的旋轉、脈沖準分子激光器等組成