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              激光脈沖沉積設(shè)備公司服務(wù)至上 沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)公司

              發(fā)布時(shí)間:2020-12-31 11:07  

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              【設(shè)備主要用途】

              PLD450A型脈沖激光沉積設(shè)備采用PLD脈沖激光沉積技術(shù),用于制備高溫超導(dǎo)薄膜、半導(dǎo)體膜、鐵電薄膜、硬質(zhì)薄膜以及微電子和光電子用多元氧化物薄膜及異質(zhì)結(jié),也可用于制備氮、碳、硅化合物及各種有機(jī)—無(wú)機(jī)復(fù)合材料薄膜及金剛石薄膜等。

              【設(shè)備優(yōu)點(diǎn)】

              設(shè)備全程采用一鍵式操作抽氣,關(guān)機(jī),程序自動(dòng)化定時(shí)操作。避免了繁瑣的角閥,插板閥人工開(kāi)啟。

              【設(shè)備主要組成】

              設(shè)備由沉積腔室(單室球形或圓筒形)、樣品加熱轉(zhuǎn)臺(tái)、激光入射轉(zhuǎn)靶、激光窗、電源控制系統(tǒng)、激光束掃描系統(tǒng)、計(jì)算機(jī)控制轉(zhuǎn)靶的旋轉(zhuǎn)、脈沖準(zhǔn)分子激光器等組成



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