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發布時間:2021-10-25 09:43  
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因此其粒度分布一般不大于10μm,粒度大于10μm的拋光粉(包括稀土拋光粉)大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亞微米級稀土拋光粉,由于在液晶顯示器與電腦光盤領域的應用逐漸受到重視,產量逐年提高。納米級稀土拋光粉目前也已經問世,隨著現代科學技術的發展,其應用前景不可預測,但目前其市場份額還很小,屬于研發階段。

以上原料中除種外,第2,3,4種均含輕稀土(w(REO)≈98%),且以CeO2為主,w(CeO2)為48%~50%.我國具有豐富的資源,據測算,其工業儲量約為1800萬噸(以CeO2計),這為今后我國持續發展稀土拋光粉奠定了堅實的基礎,也是我國獨有的一大優勢,并可促進我國稀土工業繼續高速發展。
1.4主要生產工藝及設備
1.4.1高系稀土拋光粉的生產
以稀土混合物分離后的氧化為原料,以物理化學方法加工成硬度大,粒度均勻、細小,呈面心立方晶體的粉末產品。其主要工藝過程為:原料→高溫→煅燒→水淬→水力分級→過濾→烘干→系稀土拋光粉產品。

在稀土拋光粉的消費中,日本是消費者,每年約生產3550噸~4000噸拋光粉,產值35億~40億日元,還從法國、美國和中國進口部分拋光粉。其中拋光粉消費市場是彩電陰極射線管。二十世紀90年代中期,日本陰極射線管的生產轉向海外,而平面顯示產品產量迅速增加,對基拋光粉的需求量也迅速增加。估計日本在液晶顯示用平面顯示器生產上消費的拋光粉約占其市場的50%.90年代以來,日本將其陰極射線管用拋光粉的生產技術和設備向海外轉移,如:日本清美化學從1989年開始在海外生產陰極射線管用基拋光粉。