大樣片離子束刻蝕機品牌價格合理 創世威納科技公司

離子束刻蝕速率

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刻蝕速率是指單位時間內離子從材料表面刻蝕去除的材料厚度，單位通常為A/minnm/min.刻蝕速率與諸多因素有關，包括離子能量、束流密度、離子入射方向、材料溫度及成分、氣體與材料化學反應狀態及速率、刻蝕生成物、物理與化學功能強度配比、材料種類、電子中和程度等。

影響離子束刻蝕的因素

影響刻蝕效果的因素很多，還有諸如離子刻蝕的二次效應、光刻膠掩模圖形的形狀和厚度、源靶距效應、離子刻蝕弓起的材料損傷及溫度效應等。

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離子束刻蝕機

離子束分析具有一定能量的離子與物質相互作用會使其發射電子、光子、X射線等，還可能發生彈性散射、非彈性散射以及核反應，產生反彈離子、反沖核、γ射線、氫核、氚核、粒子等核反應產物，可以提供有關該物質的組分、結構和狀態等信息。利用這些信息來分析樣品統稱離子束分析。在離子束分析方法中，比較成熟的有背散射分析X射線熒光分析、核反應分析和溝道效應（見溝道效應和阻塞效應）與其他分析相結合的分析方法等。此外，利用低能離子束還可作表面成分分析,如離子散射譜(ZSS)、次級離子質譜(SZMS)等。超靈敏質譜（質譜）、帶電粒子活化分析、離子激發光譜、離子激發俄歇電子譜等正在發展中。用于離子束分析的MV級已有專門的商業化設備。