大樣片磁控濺射鍍膜機原理-大樣片磁控濺射鍍膜機-創世威納公司

我國真空鍍膜機行業發展現狀和前景分析

我國鍍膜機械，經過了幾十年發展，形成了門類齊全、布局合理，品種配套，真空鍍膜技術水平與鍍膜工業發展基本適應的體系，真空鍍膜設備已經不能再叫新行業了，其是一個有創新能力的成熟行業，鍍膜技術從重污染轉為輕污染直至以后的無污染，創新是前提，隨著更新型節能環保的真空機械設備研發必將改變整個工業。

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磁控濺射鍍膜機

目前認為濺射現象是彈性碰撞的直接結果，濺射完全是動能的交換過程。當正離子轟擊陰極靶，入射離子當初撞擊靶表面上的原子時，產生彈性碰撞，它直接將其動能傳遞給靶表面上的某個原子或分子，該表面原子獲得動能再向靶內部原子傳遞，經過一系列的級聯碰撞過程，大樣片磁控濺射鍍膜機，當其中某一個原子或分子獲得指向靶表面外的動量，并且具有了克服表面勢壘(結合能)的能量，它就可以脫離附近其它原子或分子的束縛，逸出靶面而成為濺射原子。

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磁控濺射鍍膜機的優勢

1.實用性：設備集成度高，結構緊湊，大樣片磁控濺射鍍膜機原理，占地面積小，大樣片磁控濺射鍍膜機多少錢，可以滿足客戶實驗室空間不足的苛刻條件；通過更換設備上下法蘭可以實現磁控與蒸發功能的轉換，實現一機多用；

2.方便性：設備需要拆卸的部分均采用即插即用的方式，接線及安裝調試簡單，既保證了設備使用方便又保證了設備的整潔；

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