金屬真空鍍膜加工廠家常用指南 泰坦金屬制品有限公司

?真空鍍膜加工金屬真空鍍膜加工廠家

　真空鍍膜加工已有200年的歷史。在19世紀可以說一直是處于探索和預研階段。探索者的艱辛在此期間得到充分體現(xiàn)。1805年, 開始研究接觸角與表面能的關系(Young)。1817年, 透鏡上形成減反射膜(Fraunhofer)。1839年, 開始研究電弧蒸發(fā)(Hare)。開始研究真空濺射鍍膜(Grove；Pulker)。1857年, 在氮氣中蒸發(fā)金屬絲形成薄膜(Faraday；Conn)。 1874年, 報道制成等離子體聚合物(Dewilde；Thenard)。1877年,薄膜的真空濺射沉積研究成功(Wright)。1880年, 碳氫化合物氣相熱解(Sawyer；Mann)。1887年, 薄膜的真空蒸發(fā)(坩堝) (Nahrwold；Pohl；Pringsheim)。開始研制形成減反射膜的化學工藝。研究成功四氯化鎢的氫還原法(CVD)； 膜厚的光學干涉測量法(Wiener)。

真空鍍膜廠家 真空鍍膜加工鍍鋁怎樣鍍厚

由于真空鍍鋁薄膜上的鍍鋁層非常薄，因此不能用常規(guī)的測厚儀器檢測其厚度，常用的檢測方法如下：

①電阻法。電阻法是利用歐姆定律來對鍍鋁層的厚度進行測量，根據(jù)歐姆定律： R=pXL/S 單位面積鍍鋁薄膜的電阻值越小，其鍍鋁層的厚度越厚，反之則越薄。

電阻法檢測鍍鋁層的厚度用表面電阻來表示，單位是Q，數(shù)值越大說明鍍鋁層厚度越薄，一般真空鍍鋁薄膜的表面電阻值為1.0～2.5Q。

電鍍的含義：

  鍍層金屬或其他不溶性材料做陽極，待鍍的金屬制品做陰極，鍍層金屬的陽離子在金屬表面被還原形成鍍層。為排除其它陽離子的干擾，且使鍍層均勻、牢固，需用含鍍層金屬陽離子的溶液做電鍍液，以保持鍍層金屬陽離子的濃度不變。電鍍的目的是在基材上鍍上金屬鍍層，改變基材表面性質(zhì)或尺寸.電鍍能增強金屬的抗腐蝕性(鍍層金屬多采用耐腐蝕的金屬)、增加硬度、防止磨耗、提高導電性、潤滑性、耐熱性、和表面美觀。

三：無環(huán)境污染：目前國家大力倡導生產(chǎn)環(huán)保，因為一切鍍層資料都是在真空環(huán)境下經(jīng)過等離子體堆積在工件表面，沒有溶液污染，所以對環(huán)境的損害適當小。

可是因為取得真空和等離子體的儀器設備精細貴重，并且堆積技術還把握在少量技術人員手中，沒有很多被推行，其出資和日常出產(chǎn)維護費用貴重.可是跟著社會的不斷進步，真空電鍍加工技術的優(yōu)勢會越來越明顯，在某些職業(yè)替代傳統(tǒng)的濕法電鍍是大勢所趨。