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發(fā)布時間:2021-11-12 04:02  








真空鍍膜設(shè)備的相關(guān)特性是什么呢?1.真空鍍膜設(shè)備沉積材料:可沉積鋁、鈦、鋯等濕法電鍍無法沉積的低電位金屬,通以反應(yīng)氣體和合金靶材更是可以沉積從合金到陶瓷甚至是金剛石的涂層,而且可以根據(jù)需要設(shè)計涂層體系.2.真空鍍膜設(shè)備節(jié)約金屬材料:由于真空涂層的附著力、致密度、硬度、耐腐蝕性能等相當(dāng)優(yōu)良,沉積的鍍層可以遠遠小于常規(guī)濕法電鍍鍍層,達到節(jié)約的目的.3.真空鍍膜設(shè)備無環(huán)境污染:由于所有鍍層材料都是在真空環(huán)境下通過等離子體沉積在工件表面,沒有溶液污染,所以對環(huán)境的危害相當(dāng)小。

鍍膜的工藝種類有哪些不同點? 1、水電鍍: 一般適用于ABS料、ABS PC料的產(chǎn)品。主要工藝是將需電鍍的產(chǎn)品放入化學(xué)電鍍液中進行電鍍。依據(jù)客戶的不同需求,可鍍成不同的色彩,與高光銀色、亞銀色、灰銀,色,金色,黑鉻色,半光鉻。因為電鍍后的產(chǎn)品其導(dǎo)電性顯著增強,關(guān)于某些需絕緣的部件怎么辦?方法有兩種:其一,在需絕緣的部位涂上絕緣油,該部位在電鍍時就不會被電鍍到,然后到達絕緣作用!當(dāng)然,涂了絕緣油的部位會變黑,就不適合作為外觀面了。其二,在需電鍍的部位用特別的膠紙貼住,維護起來,同樣到達絕緣的作用。2、真空離子鍍,又稱真空鍍膜:一般適用規(guī)模較廣,如ABS料、ABS PC料、PC料的產(chǎn)品。一起因其工藝流程雜亂、環(huán)境、設(shè)備要求高,單價比水電鍍貴重?,F(xiàn)對其工藝流程作扼要介紹:產(chǎn)品外表清潔、去靜電--〉噴底漆--〉烘烤底漆--〉真空鍍膜--〉噴面漆--〉烘烤面漆--〉包裝。 真空電鍍可分為一般真空電鍍、UV真空電鍍、真空電鍍特別; 工藝有蒸鍍、濺鍍、色等。3、兩種工藝的差異:水電鍍因工藝較簡略,從設(shè)備到環(huán)境得要求均沒有真空離子鍍嚴苛,然后被廣泛運用。在東莞很簡單找到此類的供貨商。而真空電鍍優(yōu)異供貨商在東莞、深圳兩地不是許多,至少俺目前沒有太多此類供貨商信息。但,水電鍍有個缺點,只能鍍ABS料和ABS PC料(此料鍍的作用也不是很抱負)。而ABS料耐溫只要80℃,這使得它的運用規(guī)模被限制了。而,真空電鍍可達200℃左右,這對運用在高溫的部件就能夠進行電鍍處理了。像風(fēng)嘴、風(fēng)嘴環(huán)運用PC料,這些部件均要求耐130℃的高溫。另,一般要求耐高溫的部件,做真空電鍍都要在終噴一層UV油,這樣使得產(chǎn)品外表即有光澤、有耐高溫、一起又確保附著力。

磁控鍍膜機的濺射方式有哪些下面小編就來給大家講講磁控鍍膜設(shè)備的濺射方式。主要的磁控濺射鍍膜設(shè)備可以根據(jù)其特征分為以下四種:(1)直流濺射;(2)射頻濺射;(3)磁控濺射;(4)反應(yīng)濺射.另外,利用各種離子束源也可以實現(xiàn)薄膜的濺射沉積.現(xiàn)在的直流濺射(也叫二級濺射)較少用到,原因是濺射氣壓較高,電壓較高,濺射速率小,膜層不穩(wěn)定等缺點.直流濺射發(fā)展后期,人們在其表面加上磁場,磁場束縛住自由電子后,以上缺點均有所改善,也是現(xiàn)階段廣泛應(yīng)用的一種濺射方法.而后又有中頻濺射,提高了陰極發(fā)電速率,不易造成放電、靶材等現(xiàn)象.而射頻濺射是很高頻率下對靶材的濺射,不易放電、靶材可任選金屬或者陶瓷等材料.沉積的膜層致密,附著力良好.

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