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真空鍍膜設備的正常工作條件

1.環境溫度：10~30℃

2.相對濕度：不大于70%

3.冷卻水進水溫度：不高于25℃

4.冷卻水質：城市自來水或質量相當的水

5.供電電壓：380V，三相50Hz或220V，單相50Hz，電壓波動范圍342~399V或198V~231V，頻率波動范圍49~51Hz；

6.設備所需的壓縮空氣、液氮、冷熱水等壓力、溫度、消耗量均應在產品使用說明書上寫明。

7.設備周圍環境整潔、空氣清潔，不應有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導電的塵埃或氣體存在。

真空鍍膜設備背壓檢漏法

背壓檢漏法是一種充壓檢漏與真空檢漏相結合的方法，真空鍍膜設備中多用于封離后的電子器件、半導體器件等密封件的無損檢漏技術中。

其檢漏過程基本上可分為充壓、凈化和檢漏三個步驟。

(1)充壓過程是將被檢件在充有高壓示漏氣體的容器內存放一定時間，如被檢件有漏孔，示漏氣體就可以通過漏孔進入被檢件的內部，并且將隨浸泡時間的增加和充氣壓力的升高，被檢件內部示漏氣體的分壓力也必然會逐漸升高。

(2)凈化過程是采用干燥氮氣流或干燥空氣流在充壓容器外部或在其內部噴吹被檢件。

如不具備氣源時也可使被檢件靜置，以便去除吸附在被檢件外表面上的示漏氣體。

在凈化過程中，因為有一部分氣體必然會從被檢件內部經漏孔流失，從而導致被檢件內部示漏氣體的分壓力逐漸下降，而且凈化時間越長，示漏氣體的分壓降就越大。

(3)檢漏過程則是將凈化后的被檢件放入真空室內，將檢漏儀與真空室相連接后進行檢漏。

抽真空后由于壓差作用，示漏氣體即可通過漏孔從被檢件內部流出，然后再經過真空室進入檢漏儀，按檢漏儀的輸出指示判定漏孔的存在及其漏率的大小。

多片式比較片裝置的設計特點

1)固定筒圓筒形狀、大直徑、厚壁結構的設計和周向對稱的固定方式，可保證其有足夠的強度和剛度，同時，還可阻止高溫濺射磨料對其內部零部件污染，保證撥動盤轉動的靈活性。

2)圓形軸承座的設計，保證軸承座安裝的密封性和垂直度；增大軸的直徑尺寸，加大軸承座中兩軸承的安裝間距，提高其自身的強度和剛度，保證轉動過程中軸1的剛度和撥動盤的旋轉靈活性、位置重復的一致性。

3)裝載換位機構，通過擴大支承盤的直徑，使該機構在平面方向的有效面積增大，可安裝直徑大(Φ26.5mm)的比較片，有利于光路調整，提高光學薄膜質量；比較片由單片玻璃作為一個比較片單元，比較片采用空間立體疊加安裝方式，多片玻璃疊加安裝在一個比較片存儲筒內，實現一次可放置50~100片比較片，解決鍍膜機鍍制多層精密光學薄膜，比較片數量少影響鍍膜層數和精度的問題。

4)定位盤與槽型光藕的配合，通過槽型光藕來感知定位盤上三個均分的120°狹縫，控制電機轉動停止。軸1旋轉定位重復的一致性得到保證，帶動撥動盤完成準確的撥片動作。

5)轉動密封饋入機構引入威爾遜密封機構，既保證電機通過齒輪嚙合帶動軸的靈活轉動，又保證真空室對外部的密封作用。優化設計的真空鍍膜機多片式比較片裝置，其特點：(1)結構簡單，強度高，可靠性好；(2)比較片裝載數量大，生產效率提高，可鍍制超多層精密光學薄膜；(3)比較片直徑增大，提高薄膜監控的精度，降低對硬件系統的要求，系統容易實現自動控制；