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發(fā)布時間：2020-12-01 07:08
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物理氣相沉積（PVD）
物理氣相沉積是指在真空條件下，用物理的方法，使材料汽化成原子、分子或電離成離子，并通過氣相過程，在材料表面沉積一層薄膜的技術(shù)。
物理沉積技術(shù)主要包括真空蒸鍍、濺射鍍、離子鍍?nèi)N基本方法。
物理氣相沉積具有適用的基體材料和膜層材料廣泛；工藝簡單、省材料、無污染；獲得的膜層膜基附著力強、膜層厚度均勻、致密、少等優(yōu)點。
廣泛用于機械、航空航天、電子、光學(xué)和輕工業(yè)等領(lǐng)域制備耐磨、耐蝕、耐熱、導(dǎo)電、絕緣、光學(xué)、磁性、壓電、滑潤、超導(dǎo)等薄膜。
氣相沉積技術(shù)是指將含有沉積元素的氣相物質(zhì)，通過物理或化學(xué)的方法沉積在材料表面形成薄膜的一種新型鍍膜技術(shù)。
根據(jù)沉積過程的原理不同，氣相沉積技術(shù)可分為物理氣相沉積(PVD)和化學(xué)氣相沉積(CVD)兩大類。
機械拋光
依靠非常細小的拋光粉的磨削、滾壓作用，除去試樣磨面上的極薄一層金屬。表面淬火
利用快速加熱使表層奧實體化，立即淬火使表層組織轉(zhuǎn)變?yōu)轳R氏體以強化表面，心部組織基本不變。
感應(yīng)加熱
利用交變電流在表面感應(yīng)巨大渦流，使金屬表面迅速加熱形成氧化層。
【金屬表面涂層】
表面涂層方法是通過物理或化學(xué)的方法在基體材料表面制備一層與基體組織結(jié)構(gòu)和性能不同的鍍層或膜層。根據(jù)涂層作用原理不同，又可大致分為轉(zhuǎn)化膜層和沉積膜層兩類。
轉(zhuǎn)化膜層是通過金屬基體與環(huán)境相（通常為液體）發(fā)生某種特定的化學(xué)反應(yīng)而在基體表面原位生長的膜層，化學(xué)組成多為無機成分。由于原位生長的特殊性，轉(zhuǎn)化膜通常具有較高的膜基界面結(jié)合強度。目前形成轉(zhuǎn)化膜的方法主要包括鈍化（passivation）、陽極氧化（anodization）、微弧氧化（micro-arc oxidation）、離子注入（ion implantation）以及化學(xué)轉(zhuǎn)化（chemical conversion）等。
電 鍍
電鍍的目的是在工件原本的材質(zhì)上鍍上金屬鍍層，改變原本材質(zhì)表面性質(zhì)或特性。電鍍能增強金屬的抗腐蝕性（鍍層金屬多采用耐腐蝕的金屬）、增加硬度、防止磨損、提高導(dǎo)電性、潤滑性、耐熱性和表面美觀等。
電鍍中常見的有鍍鋅、鍍鉻、鍍鎳等。
鍍鋅是在金屬、合金或者其他材料的表面鍍一層鋅以起美觀、防銹等作用，現(xiàn)在主要采用的方法是熱鍍鋅；
鍍鉻在大氣中很穩(wěn)定，不易變色和失去光澤，硬度高、耐磨性好。當不銹鋼金屬件的硬度不夠時，可鍍鉻提高硬度。為了防止腐蝕，鍍鉻前還需鍍銅和鎳。鍍鉻層可以承受華氏1200度（650℃）的高溫；
鍍鎳廣泛用于汽車、自行車、鐘表、、儀器儀表和日用五金等方面，可用于既要防腐，又要導(dǎo)電性好的工件上，如麥丁丁五金配件中的彈片。
