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真空鍍膜技術優點

清洗過程簡化：現有真空鍍膜機PVD涂層鍍膜工藝，多數均要求事先對工件進行嚴格清洗，既復雜又費事。然而，離子鍍工藝自身就有一種離子轟擊清洗作用，并且這一作用還一直延續于整個鍍膜過程。清洗效果良好，能使鍍層直接貼近基體，有效地增強了附著力，簡化了大量的鍍前清洗工作。

可鍍材料廣泛：離子鍍由于是利用高能離子轟擊工件表面，使大量的電能在工件表面轉換成熱能，從而促進了表層組織的擴散作用和化學反應。然而，整個工件，特別是工件心部并未受到高溫的影響。因此這種鍍膜工藝的應用范圍較廣，受到的局限性則較小。通常，各種金屬、合金以及某些合成材料、絕緣材料、熱敏材料和高熔點材料等均可鍍復。即可在金屬工件上鍍非金屬或金屬，也可在非金屬上鍍金屬或非金屬，甚至可鍍塑料、橡膠、石英、陶瓷等。

常用的光學鍍膜有哪些？

干涉濾光片

是種類多、結構復雜的一類光學薄膜。它的主要功能是分割光譜帶。常見的干涉濾光片是截止濾光片和帶通濾光片。截止濾光片可以把所考慮的光譜區分成兩部分，一部分不允許光通過（稱為截止區），另一部分要求光充分通過（稱為帶通區）。按照通帶在光譜區的位置又可分為長波通和短波通二種，它們簡單的結構分別為，這里H、L分別表示厚的高、低折射率層，m為周期數。具有以上結構的膜系稱為對稱周期膜系。如果所考慮的光譜區很寬或通帶透過率的波紋要求很高，膜系結構會更加復雜。

帶通濾光片只允許光譜帶中的一段通過，而其他部分全部被濾掉,按照它們結構的不同可分為法布里-珀羅型濾光片、多腔濾光片和誘增透濾光片。

光學薄膜的結構與法－珀標準具相同，因為由它獲得的透過光譜帶都比較窄，所以又叫窄帶干涉濾光片。這種濾光片的透過率對薄膜的損耗非常敏感，所以制備透過率很高、半寬度又很窄的濾光片是很困難的。多腔濾光片又叫矩形濾光片，它可以做窄帶帶通濾光片，又可以做寬帶帶通濾光片，制備波區較寬，透過率高，波紋小的多腔濾光片同樣是困難的。

誘增透濾光片是在金屬膜兩邊匹配以適當的電介質膜系，以增加勢透過率，減少反射，使通帶透過率增加的一類濾光片。雖然它的通帶性能不如全電介質法－珀濾光片,卻有著很寬的截止特性,所以還是有很大的應用價值。特別在紫外區，一般電介質材料吸收都比較大的情況下,它的優越性就更明顯了。圖3的a、b、c分別給出法布里-珀羅型濾光片、多腔濾光片和誘增透濾光片的典型曲線。

引起鍍膜玻璃膜層不均勻原因多方面

二次污染造成的洗凈的玻璃在鍍膜前需經過加熱，抽真空和濺射等過程，而使玻璃再次污染，從而使玻璃鍍膜后產生。玻璃加熱過程中再污染是加熱室或濺射室不干凈，而對玻璃再污染，這些污染源主要來源于擴散泵返油、加熱室或濺射室內臟、靶玻璃材濺射產生靶灰，殘余氣體壓強高等諸多方面。因為一般的固體物質，每單位表面積上的分子數大約為10個左右，在常Pa的壓強下，每秒鐘撞表面的分子數大體上相當于覆蓋物質積的分子數。在殘余氣體壓強為10的情況下，假如以每秒一層原子左右的形成速度進行鍍膜時，則蒸發的原子和殘余氣體的分子幾乎是以相同的幾率碰撞基片。在濺射過程中在充入氣時壓強為10～10時所形成膜的速度和蒸發條件下基本相同。