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真空鍍膜機的真空室設計方法

真空鍍膜技術是在真空條件下采用物理或者化學方法，使物體表面獲取所需膜體，真空鍍膜技術根據其采用方法的不同科分成蒸發鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積以及分子束外延等，這次分析的鍍膜設備采用的是磁控濺射鍍膜。

真空室是真空設備的一個主要組成部位，真空鍍膜設備真空室設計主要考慮的就是密封性和可靠性，結構必須要合理，真空設備的材料生產都是在真空室內進行的，材料對真空度的影響要小，設計不能馬虎，要注意一些問題。

使用磁控濺射的真空鍍膜機一般采用的是圓筒主體結構，結構上要保證快速抽空，因氣袋會緩慢的放氣，因此要避免出現隔離孔穴，真空系統上端會加裝磁控濺射，為了使真空室和元件有足夠的強度，保證在外部和內部的作用力下不產生形狀的變化，厚度需要足夠。

焊接是真空室制造中的一道關鍵工序，保證焊接之后的真空室不會產生漏氣現象，須合理設計焊接結構，提高焊接質量，處在超高真空的內壁粗糙度要拋光使室外室內表面很光潔，須特別注意的是需做好防止生銹的措施。

什么是真空鍍膜技術？

所謂真空鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內，采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。

在真空條件下成膜有很多優點：可減少蒸發材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發源材料間的化學反應（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內壓力等于或低于10-2Pa，對于蒸發源與基板距離較遠和薄膜質量要求很高的場合，則要求壓力更低。

不同類型鍍膜機的適用范圍介紹

隨著人們生活水平的不斷提高，人們對商品的裝飾要求也越來越高，這便對各類商品裝飾提出了新的挑戰，傳統上對非金屬物件表面金屬化或金屬物件表面裝飾通常采用電鍍的方法。但由于傳統電鍍毒性大，污染嚴重,在環保意識逐步加強的今天,這種技術已逐漸被社會淘汰。

真空鍍膜機與傳統的電鍍法相比，多功能真空鍍膜機技術具有裝飾效果好、金屬感強、成本低(約為傳統電鍍的1／3～1／2)、污染小、易于操作等優點。特別在非金屬物件的應用上,有著傳統電鍍無法比擬的優勢。

鑒于此,真空鍍膜已被廣泛應用于各類非金屬制品的表面金屬化上：

1、磁控濺射鍍膜設備：應用于信息存儲領域，如磁信息存儲、磁光信息存儲等；

2、磁控濺射鍍膜機：應用于防護涂層，如飛機發動機的葉片、汽車鋼板、散熱片等；

3、磁控濺射鍍Al膜生產線：應用于太陽能利用領域，如太陽能集熱管、太陽能電池等；

4、光學鍍膜設備：應用于光學薄膜領域，如增透膜、高反膜、截止濾光片、防偽膜等；

5、AZO透明導電膜磁控濺射鍍膜生產線：應用于信息顯示領域，如液晶屏、等離子屏等；

6、觸摸屏連續式鍍膜生產線：應用于觸摸屏領域，如手機、電腦、MP4等數碼產品屏幕等；

7、磁控中頻多弧離子鍍膜設備：應用于硬質涂層，如切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等；

8、PECVD磁控生產線：應用于集成電路制造，如薄膜電阻器、薄膜電容器、薄膜溫度傳感器等；

9、蒸發式真空鍍膜設備：應用于在裝飾飾品上，如手機殼、表殼、眼鏡架、五金、小飾品等鍍膜；

10、低輻射玻璃鍍膜生產線：應用于建筑玻璃方面，如陽光控制膜、低輻射玻璃、防霧防露和自清潔玻璃等；

11、抗反射導電膜連續磁控濺射生產線：應用于電子產品領域，如液晶顯示器、液晶電視、MP4、車載顯示、手機顯示、數碼相機和掌聲電腦等；