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發布時間:2021-11-25 04:07  








雙色真空鍍膜機PVD技術的應用范圍及優缺點

很多人對真空鍍膜機PVD技術的了解不是特別全,也不知道具體是應用到哪些行業,以及它在實際運用過程有哪些優缺點?至成真空小編現在詳細和大家介紹一下:
真空鍍膜機PVD技術其應用范圍是:
1)碳鋼、合金鋼、不銹鋼及鈦合金等金屬材料;
2)金屬材料的表面硬度至少需要在HV170以上。
真空鍍膜機PVD技術其優點是:
與傳統磁控濺射單色PVD技術相比,雙色PVD工藝更為復雜,流程更為繁雜,生產難度高,但外觀效果,兩種顏色的表面硬度都在HV600以上。傳統磁控濺射單色PVD技術要在實現雙色效果,采取的工藝措施是在整體PVD單色的基礎上把需要實現另一種顏色的區域激光鐳雕掉或者磨掉。新加工出來的區域就只能表現金屬的本色,表面硬度也就是金屬本身的表面硬度---HV200左右(而PVD后的表面硬度為HV600以上)。
ITO真空鍍膜設備生產特點

1)真空室體資料選用SUS304,真空室內壁進行拋光處理,外壁選用拋光后噴珠處理。
2)真空室之間選用獨立門閥-插板閥隔開,能夠完成有用隔斷,安穩技能氣體。現在咱們至成真空科技選用插板閥規劃,它比現在國內通用的翻板閥密封作用非常好,更經用。
3)傳動選用磁導向,確保傳動的安穩性。整條出產線的各段速度選用變頻調速電機驅動,運轉速度可調理。
4)真空電鍍設備電氣操控體系:觸摸屏與PLC自動操控,人機對話辦法來完成體系的數據顯現、操作與操控
真空鍍膜機離子鍍是什么?

很多人聽說過離子真空鍍膜機,但是對于真空鍍膜機離子鍍了解甚少,離子鍍是一種鍍膜工藝中的一種,下面為大家詳細介紹一下:首先給大家它定義:蒸發物質的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面,稱為離子鍍。離子鍍是真空蒸發與陰極濺射技術的結合。
它的原理是:蒸發源接陽極,工件接陰極,當通以三至五千伏高壓直流電以后,蒸發源與工件之間產生輝光放電。由于真空罩內充有惰性Ar氣,在放電電場作用下部分Ar氣被電離,從而在陰極工件周圍形成一等離子暗區。帶正電荷的Ar離子受陰極負高壓的吸引,猛烈地轟擊工件表面,致使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出,從而使工件待鍍表面得到了充分的離子轟擊清洗。隨后,接通蒸發源交流電源,蒸發料粒子熔化蒸發,進入輝光放電區并被電離。帶正電荷的蒸發料離子,在陰極吸引下,隨同Ar離子一同沖向工件,當拋鍍于工件表面上的蒸發料離子超過濺失離子的數量時,則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。
它能分為四類:①磁控濺射離子鍍。②反應離子鍍。③空心陰極放電離子鍍。④多弧離子鍍。
它的特點:鍍層附著性能好,對離子鍍后的試件作拉伸試驗表明,一直拉到快要斷裂時,鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸,無起皮或剝落現象發生;繞鍍能力強,因此這種方法非常適合于鍍復零件上的內孔、凹槽和窄縫,等其他方法難鍍的部位;鍍層質量好,離子真空鍍膜機鍍膜的鍍層組織致密、無孔、無氣泡、厚度均勻;清洗過程簡化。
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