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雜志捕獲儀溶液吸收法

稀堿溶液(0.1 mol/L氫氧化銨)作為吸收液，然后在吸收液中加入，加熱時形成揮發(fā)的四去除硅基體；采用1%和1%氫氧化銨混合液作為烷和磷烷的吸收液，然后在烷吸收液中加入濃鹽酸，加熱形成揮發(fā)的三氯化除去基體；而對于磷烷吸收液則采用強堿性陰離子樹脂靜態(tài)分離去除磷基體。取樣系統(tǒng)如圖2所示，與圖1取樣系統(tǒng)不同的是，烷類氣體取樣前先用惰性氣體清洗系統(tǒng)十分鐘，且取樣完畢后再用惰性氣體清洗以確保安全。

原子吸收光譜(AAS)

原子吸收光譜法( 簡稱AAS)是基于待測元素的基態(tài)原子蒸汽對其特征譜線的吸收，由譜線的特征性和信號強度對待測元素進行定性和定量分析的一種常用分析方法。該分析方法主要有四種類型：火焰原子吸收光譜分析法、石墨爐原子吸收光譜分析法、蒸汽發(fā)生原子吸收光譜分析法和流動注射原子吸收光譜分析法。其中，以前兩種分析方法為常用

雜質(zhì)捕獲

電子氣體的不同特性，可以選擇不同的氣體捕集方法以及檢測方法進行樣品氣中金屬成分的測量。然而，在電子氣體痕量金屬離子分析中，取樣過程中來自試劑、容器和環(huán)境等的外源性雜質(zhì)所造成的二次污染，氣體-雜質(zhì)、雜質(zhì)-雜質(zhì)及它們與儀器系統(tǒng)之間的相互作用，再加上基體干擾，均可能構(gòu)成背景干擾，影響痕量雜質(zhì)的準確分析，導致分析結(jié)果很容易出現(xiàn)偶然誤差甚至錯誤。特別對于Cl2、HCl和HF等具有嗜水性和腐蝕性的氣體，對金屬離子的提取以及分析系統(tǒng)和方法均提出更嚴苛的要求。因此，還需深入系統(tǒng)地研究電子氣體中超痕量雜質(zhì)的干擾因素，揭示其形成途徑和影響機理，為正確消除背景干擾提供理論依據(jù)，確保分析結(jié)果的代表性、準確性和重現(xiàn)性，實現(xiàn)單種金屬雜質(zhì)的分析。

總沉淀物是指油品中所有不溶于溶劑（如）的無機物和有機物（ISO10307的定義），是中、重質(zhì)燃油的規(guī)格指標之一。沉淀物往往是一些機械雜質(zhì)，或者是由加工過程、運輸、儲存過程引入，沉淀物含量高容易堵塞濾器、噴嘴、閥門等，并會引致或加重機件的磨損。其測定原理是將一定量的油樣置于一多孔性濾器內(nèi)不斷的滴入熱溶劑，凡溶于溶劑的成分均透過濾器被排走，留下者即為不溶于溶劑的沉淀物，單位：重量%。其測定標準可以查下GB/T6531或ISO10307。