鎂合金微弧氧化應用-鎂合金微弧氧化-日照微弧氧化電源(查看)

與普通的陽極氧化膜相比， 微弧氧化膜的空隙小，空隙率低，與基質結合緊密， 且在耐蝕、耐磨性能等方面得到了很大的提高。微弧氧化技術生成的膜層綜合性能優良，與基體結合牢固， 且工藝簡單，對環境污染小， 目前對其生長規律、生長機理和影響因素等已經有了較為深入的研究， 在工業上得到了一定的應用， 是一種具有發展潛力的鎂合金表面處理技術。微弧氧化技術在現代工業中應用匯越來越廣泛。

1、陽極氧化膜厚不足。解決的辦法是檢查陽極氧化工藝是否規范，看溫度，電壓，導電等因素是否穩定，若有異常，請相應調整規范之，若無異常，鎂合金微弧氧化，可適當延長氧化時間，鎂合金微弧氧化加工廠，保證膜厚達標。

2、染液pH值太高，此時，可用冰醋酸將pH值調至規范值。

3、導電不良。可能陽極銅桿或陰極鉛板接觸不良所示批量導電不良。注意清洗陽極銅桿及陰極鉛板，鎂合金微弧氧化應用，保證接觸良好。

微弧氧化技術優勢

1、采用堿性電解液，對環境污染小。　

2、工藝流程簡單，前處理工序少，適于大規模自動化生產。　

3、允許溫度變化范圍寬，電解液允許的溫度范圍一般為10-70℃。　　

4、處理能力強。工件的形狀可較復雜，且可處理部分內表面，鎂合金微弧氧化表面要求，對異形零件、孔洞、焊縫的可加工能力遠遠高于其他表面陶瓷化工藝。且對工件的修補和重復加工能力投強。　　

5、電源模式一般采用交流或脈沖方式，這種方式具有較高能量，且生成的陶瓷膜性能比直流電源的高。

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