鎂合金微弧氧化加工廠-鎂合金微弧氧化-日照微弧氧化電源

       微弧氧化電流密度的選定還必須與其他工藝條件和性能要求相結合。這些工藝條件包括電解液組成和溫度、基材成分、電源模式等。微弧氧化突破傳統陽極氧化的限制，利用電極間施加很高的電壓使浸在電解液中的電極表面發生微弧放電現象，電壓的高低是影響微弧氧化的主要因素之一。實驗表明，不同的溶液有不同的電壓工作范圍，如果電壓過低，陶瓷層生長速度較小，陶瓷層較薄，顏色較淺，硬度也較低;工作電壓過高，鎂合金微弧氧化，工件易出現燒蝕現象，鎂合金微弧氧化加工廠，生成的陶瓷層致密性較差，厚度不鈞勻。

微弧氧化的特點

1、微弧氧化可以一次完成，也可以分幾次完成。特別對于氧化膜要求很厚的樣品可以分幾次氧化，而陽極氧化一旦中斷就必須重新開始。

2、在陽極氧化不易成膜的某些鋁合金如Al-Cu、Al-Si等合金表面，同樣可獲得性能很好的厚膜，尤其在Al-Cu合金表面（如Ly12合金），可以形成高硬度的厚膜，HV可達到1600以上。微弧氧化電源、微弧氧化技術、微弧氧化設備、微弧氧化電源

       微弧氧化產生的高溫高壓特性可使鋁合金表面氧化膜發生相轉變和結構轉變。在微弧氧化的過程下，原來生產的氧化膜不會脫落，只有表面一部分氧化膜可能會被粉化而沉淀在溶液中，脫落的表面可以繼續氧化，隨著外加電壓的升高，鎂合金微弧氧化應用，或時間的延長，微弧氧化 鎂合金加工，微弧氧化膜厚度會不斷增加，直至達到外加電壓所對應的厚度。經測試，微弧氧化膜的厚度可達到200-300μm。微弧氧化技術優勢、微弧氧化設備、微弧氧化電源

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