鎂合金微弧氧化封孔-日照微弧技術(shù)(在線咨詢)-鎂合金微弧氧化

在硅酸鹽體系中分別添加三氧化鉬和鉬酸鈉，對(duì)AZ91D鎂合金進(jìn)行微弧氧化處理，對(duì)比研究鉬質(zhì)量濃度相同的三氧化鉬和鉬酸鈉對(duì)微弧氧化膜耐蝕性的影響。通過(guò)TT260涂層測(cè)厚儀、SEM和XRD分別檢測(cè)膜層厚度、表面形貌和物相組成。采用點(diǎn)滴和電化學(xué)實(shí)驗(yàn)研究膜層的耐蝕性。

結(jié)果表明：電解液中加入鉬質(zhì)量濃度相同的MoO3和Na2MoO4后，膜層點(diǎn)滴耐蝕性均有所降低，但電化學(xué)耐蝕性均增加，且二者添加量均為少時(shí)膜層耐蝕性更佳。

1溫度對(duì)微弧氧化的影響

微弧氧化與陽(yáng)極氧化不同，所需溫度范圍較寬。一般為10-90度。溫度越高，成膜越快，鋁 鎂合金微弧氧化設(shè)備，但粗糙度也增加。且溫度高，會(huì)形成水氣。一般建議在20-60度。由于微弧氧化以熱能形式釋放，所以液體溫度上升較快，微弧氧化過(guò)程須配備容量較大的熱交換制冷系統(tǒng)以控制槽液溫度。

2.時(shí)間對(duì)微弧氧化的影響

微弧氧化時(shí)間一般控制在10~60min。氧化時(shí)間越長(zhǎng)，鎂合金微弧氧化表面要求，膜的致密性越好，但其粗糙度也增加。

3.陰極材料

陰極材料可選用不銹鋼，碳鋼，鎳等，可將上述材料懸掛使用或做成陰極槽體。

4.后處理對(duì)微弧氧化的影響

微弧氧化過(guò)后，工件可不經(jīng)過(guò)任何處理直接使用，也可進(jìn)行封閉，鎂合金微弧氧化封孔，電泳，拋光等后續(xù)處理。折疊

微弧氧化工藝

微弧氧化工藝技術(shù)是直接在有色金屬表面原位生成陶瓷層的新技術(shù)。微弧氧化工藝技術(shù)工藝簡(jiǎn)單，對(duì)環(huán)境污染小，具備很大的性，鎂合金微弧氧化，它制備的膜層特點(diǎn)鮮明，膜層與基體金屬屬于冶金結(jié)合，結(jié)合牢固，在制備涂層方面具有明顯優(yōu)勢(shì)，微弧氧化技術(shù)已被廣泛應(yīng)用于Al、Ti 和Mg等金屬行業(yè)，是一種很有前景的表面處理工藝。

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