NR75 1000HP光刻膠廠家-北京賽米萊德

光刻工藝主要性一

光刻膠不僅具有純度要求高、工藝復雜等特征，還需要相應光刻機與之配對調試。一般情況下，一個芯片在制造過程中需要進行10~50道光刻過程，由于基板不同、分辨率要求不同、蝕刻方式不同等，不同的光刻過程對光刻膠的具體要求也不一樣，NR75 1000HP光刻膠多少錢，即使類似的光刻過程，NR75 1000HP光刻膠，不同的廠商也會有不同的要求。

針對不同應用需求，光刻膠的品種非常多，這些差異主要通過調整光刻膠的配方來實現。因此，通過調整光刻膠的配方，滿足差異化的應用需求，是光刻膠制造商的技術。

此外，由于光刻加工分辨率直接關系到芯片特征尺寸大小，而光刻膠的性能關系到光刻分辨率的大小。限制光刻分辨率的是光的干涉和衍射效應。光刻分辨率與曝光波長、數值孔徑和工藝系數相關。

PC6-16000

NR9-3000PY 相對于其他光刻膠具有如下優勢：

- 優異的分辨率性能

- 快速地顯影

- 可以通過調節曝光能量很容易地調節倒梯形側壁的角度

- 耐受溫度100℃

- 室溫儲存保質期長達3 年

NR9-1000PY 0.7μm - 2.1μm

NR9-1500PY 1.1μm - 3.1μm

NR9-3000PY 2.1μm - 6.3μm

NR9-6000PY 5.0μm -

12.2μm  

Resist Thickness

NR71-1000PY 0.7μm - 2.1μm

NR71-1500PY 1.1μm - 3.1μm

NR71-3000PY 2.1μm - 6.3μm

NR71-6000PY 5.0μm - 12.2μm

政策扶持

為促進我國光刻膠產業的發展，國家02重大專項給予了大力支持。今年5月，02重大專項實施管理辦公室組織任務驗收組、財務驗收組通過了“極紫外光刻膠材料與實驗室檢測技術研究”項目的任務驗收和財務驗收。

據悉，NR75 1000HP光刻膠哪里有，經過項目組全體成員的努力攻關，完成了EUV光刻膠關鍵材料的設計、制備和合成工藝研究、配方組成和光刻膠制備、實驗室光刻膠性能的初步評價裝備的研發，達到了任務書中規定的材料和裝備的考核指標。項目共申請發明15項（包括國際5項），截止到目前，共獲得授權10項（包括國際授權3項）。

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