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發布時間:2022-05-15 03:13  





光刻膠介紹
光刻膠(又稱光致抗蝕劑),是指通過紫外光、準分子激光、電子束、離子束、x射線等光源的照射或輻射,其溶解度發生變化的耐蝕刻材料。光刻膠具有光化學敏感性,其經過曝光、顯影、刻蝕等工藝,可以將設計好的微細圖形從掩膜版轉移到待加工基片。因此光刻膠微細加工技術中的關鍵性化工材料,被廣泛應用于光電信息產業的微細圖形線路的加工制作。生產光刻膠的原料包括光引發劑(包括光增感劑、光致產酸劑)、光刻膠樹脂、單體和其他助劑等。

光刻膠京東方
事實上,我國是在缺乏經驗、缺乏技術人才,RD6光刻膠,缺失關鍵上游原材料的條件下,全靠自己摸索。近年來,盡管光刻膠研發有了一定突破,RD6光刻膠價格,但國產光刻膠還是用不起來。目前,國外阻抗已達到15次方以上,RD6光刻膠報價,而國內企業只能做到10次方,滿足不了客戶工藝要求和產品升級的要求,有的工藝雖達標了,但批次穩定性不好。
“10次方的光刻膠經過多次烘烤,由于達不到客戶需求的防靜電作用,不能應用到新一代窄邊框等面板上。而國外做到15次方就有了很好的防靜電作用。這還是我們的光刻膠材料、配方、生產工藝方面存在問題。”李中強說。
關鍵指標達不到要求,國內企業始終受制于人。就拿在國際上具有一定競爭實力的京東方來說,目前已建立17個面板顯示生產基地,其中,有16個已經投產。但京東方用于面板的光刻膠,仍然由國外企業提供。
二、預烘和底膠涂覆(Pre-bake and Primer Vapor)
由于光刻膠中含有溶劑,所以對于涂好光刻膠的硅片需要在80度左右的。硅片脫水烘焙能去除圓片表面的潮氣、增強光刻膠與表面的黏附性、通常大約100 °C。這是與底膠涂覆合并進行的。
底膠涂覆增強光刻膠(PR)和圓片表面的黏附性。廣泛使用: (HMDS)、在PR旋轉涂覆前HMDS蒸氣涂覆、PR涂覆前用冷卻板冷卻圓片。

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