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光刻膠

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1959 年被發明以來就成為半導體工業的工藝材料之一。隨后光刻膠被改進運用到印制電路板的制造工藝，成為 PCB 生產的重要材料。

二十世紀 90 年代，光刻膠又被運用到平板顯示的加工制作，對平板顯示面板的大尺寸化、高精細化、彩色化起到了重要的推動作用。

在半導體制造業從微米級、亞微米級、深亞微米級進入到納米級水平的過程中，光刻膠也起著舉足輕重的作用。

總結來說，光刻膠產品種類多、性強，需要長期技術積累，對企業研發人員素質、行業經驗、技術儲備等都具有極高要求，企業需要具備光化學、有機合成、高分子合成、精制提純、微量分析、性能評價等技術，NR74g 3000PY光刻膠哪家好，具有極高的技術壁壘。

何為光刻膠

光刻膠又稱光致抗蝕劑，是一種具有光化學敏感性的功能性化學材料，由光引發劑、光刻膠樹脂、單體（活性稀釋劑）、溶劑和其他助劑組成的對光敏感的混合液體，其中，樹脂約占50%，單體約占35%。

它被稱為是電子化工材料中技術壁壘較高的材料之一，主要利用光化學反應將所需要的微細圖形從掩模版轉移到待加工基片上，被廣泛應用于光電信息產業的微細圖形線路的加工制作，下游主要用于集成電路、面板和分立器件的微細加工，同時在 LED、光伏、磁頭及精密傳感器等制作過程中也有廣泛應用。

按照下游應用，光刻膠可分為半導體用光刻膠、LCD用光刻膠、PCB（印刷線路板）用光刻膠等，其技術壁壘依次降低。

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光刻膠按用途分類

光刻膠經過幾十年不斷的發展和進步，應用領域不斷擴大，衍生出非常多的種類，按照應用領域，NR74g 3000PY光刻膠報價，光刻膠可以劃分為印刷電路板(PCB)用光刻膠、液晶顯示(LCD)用光刻膠、半導體用光刻膠和其他用途光刻膠。其中，PCB 光刻膠技術壁壘相對其他兩類較低，而半導體光刻膠代表著光刻膠技術水平。

(1)半導體用光刻膠

在半導體用光刻膠領域，光刻技術經歷了紫外全譜(300～450nm)、G 線(436nm)、I 線 (365nm)、深紫外(DUV，包括 248nm 和 193nm)和極紫外(EUV)六個階段。相對應于各曝光波長的光刻膠也應運而生，光刻膠中的關鍵配方成份，NR74g 3000PY光刻膠，如成膜樹脂、光引發劑、添加劑也隨之發生變化，使光刻膠的綜合性能更好地滿足工藝要求。

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