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真空磁控濺射鍍膜機工藝,及人員技能選擇

很多人聽說過真空磁控濺射鍍膜工藝，大概只知道它的做用就是鍍膜，但是大家卻不知道，它的鍍膜原理以及流程，為什么它能鍍出精美的膜，包括后期這方面的工作人員該如何選擇，或者是規劃自己后期的發展，各人認為，只有你對這個行業有詳細的了解，這樣你才能做出正確的選擇。

首先給大家講解一下真空磁控濺射鍍膜機鍍膜流程，讓大家知道，那些漂亮的膜是怎么鍍出來的。一般在在鍍膜前，機器都要先抽真空，并且抽真空過程中要加熱，加熱的溫度取決于你工件的材質3。當真空度達到高真空，一般在0.005Pa左右時，開始Ar離子轟擊清洗，用電弧靶主弧轟擊清洗，接著用用用電弧和磁控靶混合打底和用磁控靶打底，然后通入要鍍的物質，后降溫出爐就可以了，整個鍍膜的過程就完成了，很多多人，覺的鍍膜工藝很繁瑣，技術含量很高。其實不然，只要你弄鍍膜流程和鍍膜過程的應該注意的細節，然后精力投入進去，其實還是非常好上手的。很過剛入門的新人，一腔熱血，想要進入鍍膜行業，想要學習技術，但是卻沒有了解他到底想要學習什么技術。是鍍膜工藝技術，鍍膜設備方面的技術，很多新人對此行業了解不深，把這兩者混為一談，只是這兩者是有很大區別的，尤其是剛進入行業的新人，要切記及注意。

光學鍍膜技術在過去幾十年實現了飛快的發展，從舟蒸發、電子束熱蒸發及其離子束輔助沉積技術發展到離子束濺射和磁控濺射技術。近年來在這些沉積技術和裝備領域的主要技術有以下三點：

一、漸變折射率結構薄膜技術與裝備：

漸變折射率結構薄膜技術與裝備:已經有大量研究工作已經證實Rugate無界面型薄膜結構和準Rugate多種折射率薄膜結構通過加強調制折射率在薄膜厚度方向上分布，能設計出非常復雜的光譜性能，(部分)消除

了薄膜界面特征，(部分)消除界面效應，如電磁波在界面上比薄膜內部更高密度的吸收中心和散射，也可以增加了薄膜力學穩定性。

二、磁控濺射光學鍍膜系統

以LeyboldHelios和ShincronRAS為代表，磁控濺射技術及裝備在精密光學領域和消費光電子薄膜領域占據越來越大的份額。磁控濺射薄膜沉積過程控制簡單，粒子能量高，獲得的薄膜結構致密穩定。

三、間歇式直接光控：

間歇式直接光控：以LeyboldOptics公司的OMS5000系統為代表，光學鍍膜過程中越來越多地使用間歇式信號采集系統，對鍍膜過程產品片實現直接監控。相對于間接光控和晶控系統，間歇式直接光控系統有利于降低實際產品上的薄膜厚度分布誤差，可以進一步提高產品良率并減少了工藝調試時間。

中頻磁控 多弧離子濺射鍍膜機特點

中頻磁控 多弧離子濺射鍍膜機具有：結構合理、膜層均勻、成膜質量好、抽速大、工作周期短、生產、操作方便、能耗低性能穩定等優點。廣泛應用于切削刀具如齒輪滾刀，插刀，銑刀，鉆頭等表面沉積超硬涂層，也可用于鐘表，眼鏡架，手機殼、鎖具，潔具等各類小五金表面沉積裝飾涂層，本設備可實現一機多用沉積多種膜層，膜層細膩，有純鈦（Ti）氮化鈦（TiN）氧化鈦（TiO）純鋯（Zr）氮化鋯（ZrN）碳化鈦（TiC）純鉻（Cr）氮化鉻（CrN）碳氮化鈦（TiCN）氮化鋁鈦（TiAlN），PVD鍍膜膜層目前常見的顏色主要有：深金黃色，淺金黃色，咖啡色，古銅色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色,藍色等。亮度好，飽滿度好

至成真空科技可以根據用戶要求設計各種規格型號的真空鍍膜機。真空機組及電控系統也可根據用戶要求進行設計配置。