光學鍍膜設備-至成鍍膜設備供應-長沙鍍膜設備

包裝卷繞真空鍍膜設備

HCPAK系列卷繞鍍膜設備是用于鋁屏障包裝應用的卷對卷金屬化解決方案。在利潤率較低的行業中，的生產效率，再加上的產品性能，是應對未來挑戰的。

通過將傳統的鋁涂層沉積到寬范圍的柔性基板上增強光學、保護和阻隔性能。HCPAK系列覆蓋了1100～3850mm的寬幅，以及所有常見的塑料薄膜和紙張基材，針對2500mm以上大寬幅基材以不同的速度實現輸出，比傳統系統提高25%以上的處理速度。

特點：高正常運行時間，因為一個強大和服務友好的機器概念由于強大的等離子預處理，產品一致性高，阻隔性能提高由于鋁蒸發器源的優化配置，在層均勻性方面具有的產品質量簡化操作和優化設計，便于操作的設備卷繞系統的設計概念使卷繞路徑能夠靈活地適應基板和應用的個別要求。由于穩健的機器設計，正常運行時間很長

電子束蒸發的優點在于：

電子束的光斑可以隨意調整，可以一多用，燈絲可以隱藏，避免污染，可以蒸發任意鍍膜材料，維修方便，蒸發速度可以隨意控制，材料分解小，膜密度高。機械強度好。濺射方式是用高速正離子轟擊靶材表面，通過動能傳輸，令靶材的分子（原子）有足夠的能量從靶材表面逸出，在產品表面凝聚形成薄膜。用濺射的方法制鍍的薄膜附著性強，薄膜的純度高，可以同時濺射多種不同成分的材料，但是對靶材的要求高，不能象電子一樣節約資源。目前運用多的有磁控濺射，磁控濺射是指平行于陰極表面施加強電場，將電子約束在陰極靶材表面附近，提高電離效率。它是操作簡單的一種，所以運用非常廣。

常用的光學鍍膜有哪些？

二，光學薄膜

減反射膜是應用廣、產量大的一種光學薄膜，因此，它至今仍是光學薄膜技術中重要的研究課題，研究的重點是尋找新材料，設計新膜系,改進淀積工藝,使之用少的層數，簡單、穩定的工藝，獲得盡可能高的成品率，達到理想的效果。對激光薄膜來說，減反射膜是激光損傷的薄弱環節，如何提高它的破壞強度，也是人們關心的問題之一。

反射膜

它的功能是增加光學表面的反射率。反射膜一般可分為兩大類，一類是金屬反射膜，一類是全電介質反射膜。此外，還有把兩者結合起來的金屬電介質反射膜。

一般金屬都具有較大的消光系數，當光束由空氣入射到金屬表面時，進入金屬內部的光振幅迅速衰減，使得進入金屬內部的光能相應減少，而反射光能增加。消光系數越大，光振幅衰減越迅速，進入金屬內部的光能越少，反射率越高。人們總是選擇消光系數較大，光學性質較穩定的那些金屬作為金屬膜材料。在紫外區常用的金屬薄膜材料是鋁，在可見光區常用鋁和銀，在紅外區常用金、銀和銅，此外，鉻和鉑也常用作一些特種薄膜的膜料。由于鋁、銀、銅等材料在空氣中很容易氧化而降低性能，所以必須用電介質膜加以保護。常用的保護膜材料有一氧化硅、氟化鎂、二氧化硅、三氧化二鋁等。金屬反射膜的優點是制備工藝簡單，工作的波長范圍寬；缺點是光損耗大，反射率不可能很高。為了使金屬反射膜的反射率進一步提高，可以在膜的外側加鍍幾層一定厚度的電介質層，組成金屬電介質反射膜。需要指出的是，金屬電介質反射膜增加了某一波長（或者某一波區）的反射率，卻破壞了金屬膜中性反射的特點。