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真空鍍膜機冷卻系統的原理及監控方法

真空鍍膜設備的金屬罩體通過安裝孔然后以焊接的方式固定在真空鍍膜機的外壁上，待冷卻的外壁通過加強圓槽形成渠道，這樣確保了冷卻的流通，也避免的死角現象的產生，有效的對鍍膜機進行了快速的降溫，降低了油泵的溫度，加強了冷卻的強度，結構簡單，等有點，在真空鍍膜機冷卻外殼上包括金屬罩體的原因是數個排列有序，并且內凹的加強圓槽，所述加強圓槽呈半球形或圓錐臺形；在所述加強圓槽底部設有用連接現有真空鍍膜機的待冷卻外壁的安裝孔，所述金屬罩體通過安裝孔并以焊接方式固定在現有真空鍍膜機的待冷卻外壁上，在所述金屬罩體與待冷卻外壁之間通過加強圓槽構成循環通道，根據權利要求1所述的真空鍍膜機循環冷卻系統用冷卻外殼，其特征在于，在所述金屬罩體上相鄰兩所述加強圓槽的縱橫間距為100-300mm,上述加強圓槽槽深為12_15mm,所述金屬罩體的厚度為2-5_，根據權利要求1所述的真空鍍膜機循環冷卻系統用冷卻外殼，其特征在于，所述加強圓槽的大直徑為24-136mm。

真空PVD鍍膜基本步驟

1、前處理工藝：褪膜、噴砂、拋光、鈍化、清洗、裝夾。

2、鍍膜工藝：抽真空、加熱烘烤、漏率測試、轟擊清洗、鍍膜、冷卻出爐。

3、后處理工藝：清洗：確保鍍膜前產品表面的清潔，越新鮮的表面，越能保證鍍膜質量。抽真空：將真空室內的殘余氣體抽走。加熱烘烤：爐體和工件同時加熱，加速殘余氣體的釋放。壓升率測試：測試爐體的漏氣率和放氣率。轟擊清洗：去除工件表面的雜志，露出新鮮表面。鍍膜：沉積膜層。冷卻：避免工件氧化變色。

什么是真空鍍膜技術？

所謂真空鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內，采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。

在真空條件下成膜有很多優點：可減少蒸發材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發源材料間的化學反應（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內壓力等于或低于10-2Pa，對于蒸發源與基板距離較遠和薄膜質量要求很高的場合，則要求壓力更低。