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真空鍍膜機真空鍍膜機廠家真空鍍膜設備工藝清洗

真空鍍膜機真空工藝進行前應清洗真空材料，從工件或系統材料表面清除污染物；車燈鍍膜機零部件的表面清洗處理也是很有必要的，因為由污染物所造成的氣體、蒸氣源不僅會使真空系統不能獲得所要求的真空度。而且由于污染物的存在，同時也會影響真空部件連接處的強度和密封性能。

真空鍍膜機污染物可以定義為“任何一種無用的物質或能量”，多弧離子鍍膜機根據污染物的物理狀態可分為固體、氣體及液體，它們以膜或散粒形式存在。就其化學特征來看，它可以處于離子態或共價態，可以是無機物或有機物。

真空鍍膜機暴露在空氣中的表面易受到污染，污染的來源有多種，起初的污染通常是表面本身形成過程中的一部分。吸附現象、化學反應、浸析和干燥過程、機械處理以及擴散和離析過程都使各種成分的表面污染物增加。

光學鍍膜機電子打火問題是怎么引起的,該如何減少次數呢?

很多人對光學鍍膜機電子打火問題很疑惑，不知道是什么原因產生的，也不知道該如何減少這種情況的發生，今天至成真空小編為大家講解一下光學鍍膜機電子打火問題是怎么引起的？

電子在蒸鍍時，由于電子束中的電子與氣體分子和蒸發材料的蒸汽發生碰撞產生的離子轟擊帶負電高壓電極及其引線，即產生打火。另外，若這些帶負高壓電的部分有塵粒等雜物，會使該處電場集中了容易打火。故電子束蒸鍍設備的高壓電源都附有高壓自動滅弧復位裝置，在打火非常嚴重時才會自動切斷高壓，然后又自動恢復，切斷與恢復的時間愈短，愈不會影響蒸鍍工藝。

那么，在安裝和使用的過程中，該如何才能減少打火次數。首先、高壓引線應盡量短，并用接地良好的不銹鋼板屏蔽住，不要追求美觀把引線彎來彎去。然后，頭金屬件和引線定期用細砂紙打光，然后清洗干凈。上螺釘的螺孔定期用絲錐攻螺孔，以便螺釘上下方便并保證壓的很緊。接著，所有陶瓷件污染后應予更換。電子體應可靠接地。對放氣量大的材料應充分預熱以除氣。蒸鍍時功率要合適，不可過高造成材料飛濺。高壓饋線與高壓絕緣子金屬件的接線一定要可靠并經常檢查，以免增大接觸電阻造成發熱而燒壞。蒸發檔板應高于蒸發源70mm.1

真空鍍膜機設備真空鍍膜機系統特點

真空鍍膜機在等離子體束濺射中，濺射離子均勻刻蝕靶面，并且不會使靶面產生氧化。與磁控濺射相比，其中的等離子體束是由射頻等離子體源產生的，磁場的作用則是使等離子體束會聚并偏轉至靶面，因此，雖然等離子體束濺射鍍膜系統內也有磁場，但其磁場卻并不控制影響濺射，這也摒棄了磁控濺射中由磁場不均勻帶來的“磁控”的缺點。在濺射完成后，所得的靶材利用率可高達90%以上。

真空鍍膜機即分別進行磁控濺射和等離子體束濺射之后靶面刻蝕的對比圖。由于靶材的利用率大幅度提高，也解決了磁控濺射中所難以克服的缺點，即靶中的毒導致的刻蝕不均勻

真空鍍膜機此外，磁控濺射由于背面磁鐵磁場不均勻而產生濺射跑道，非磁場約束區很容易產生氧化，因此很難沉積鐵磁性材料，而等離子體束濺射中由于不用磁鐵作為等離子體約束，能夠進行鐵磁性材料的鍍膜，并且可以使用很厚的靶材，圖3中實驗金屬鈷的厚度即為6mm。對于鐵、鎳、鉻以及鐵磁性化合物，等離子體束濺射也都具有很高的濺射速率。

應用該項鍍膜技術的系統還有一個優點，當將電磁線圈的極性反接時，由于磁場的方向產生了變化，等離子體束會在磁場的作用下轟擊基片，從而對基片產生清洗作用,如圖4所示。這實際上可以使得應用該項技術的鍍膜機省略常規鍍膜機的清洗用離子源。