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2，涂膠，在硅片覆蓋，旋轉，離心力，在硅片表面通過旋轉的光刻膠，工藝參數3000-6000rpm   膠膜厚0.5-1um， 

3，前烘，通過在較高溫度下進行烘焙，使存底表面涂覆的光刻膠膜的溶劑揮發，溶劑將至5%左右，同時增強與襯底的粘附性。前烘方法：熱平板傳導，NR9 3000PY光刻膠多少錢，干燥循環熱風提高附著力，紅外線輻射。

烘箱前烘條件：90-100度，10-20min，前烘時間與溫度應適當，NR9 3000PY光刻膠哪家好，如太長或溫度太高，光刻膠層變脆而附著力下降，而前烘不足會影響后面的顯影效果。

光刻膠市場

我國光刻膠市場規模2015年已達51.7億元，同比增長11%，高于國際市場增速，但占比仍不足15%，發展空間巨大。2015年我國光刻膠產量為9.75萬噸，而需求量為10.12萬噸，NR9 3000PY光刻膠公司，依照需求量及產量增速預計，未來仍將保持供不應求的局面。據智研咨詢估計，得益于我國平面顯示和半導體產業的發展，我國光刻膠市場需求，在2022年可能突破27.2萬噸。在光刻膠生產種類上，我國光刻膠廠商主要生產PCB光刻膠，而LCD光刻膠和半導體光刻膠生產規模較小，相關光刻膠主要依賴進口。放眼國際市場，光刻膠也主要被美國Futurrex 的光刻膠、日本合成橡膠（JSR）、東京應化（TOK）、住友化學、美國杜邦、德國巴斯夫等化工寡頭壟斷。

光刻膠國內研發現狀

“造成與國際水平差距的原因很多。過去由于我國在開始規劃發展集成電路產業上，布局不合理、不完整，特別是生產加工環節的投資，而忽視了重要的基礎材料、裝備與應用研究。目前，整個產業是中間加工環節強，NR9 3000PY光刻膠，前后兩端弱，技術至今被TOK、JSR、住友化學、信越化學等日本企業所壟斷。

光刻膠的主要技術指標有解析度、顯影時間、異物數量、附著力、阻抗等。每一項技術指標都很重要，必須全部指標達到才能使用。因此，國外企業在配方、生產工藝技術等方面，對中國長期保密。中國的研發技術有待進一步發展

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