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              激光脈沖沉積設(shè)備廠家服務(wù)為先「在線咨詢」

              發(fā)布時間:2021-03-22 23:07  

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              PLD450型脈沖激光鍍膜介紹

              沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——專業(yè)脈沖激光沉積供應(yīng)商,我們?yōu)槟鷰硪韵滦畔ⅰ?

              主要用途:  

              用于制備超導(dǎo)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、超硬薄膜等。適用于各大專院校、科研院所進行薄膜材料的科研與小批量制備?! ?

              系統(tǒng)組成:  

              主要由濺射真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成?! ?



              脈沖激光沉積的優(yōu)點

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              1. 易獲得期望化學(xué)計量比的多組分薄膜,即具有良好的保成分性;

              2. 沉積速率高,試驗周期短,襯底溫度要求低,制備的薄膜均勻;

              3. 工藝參數(shù)任意調(diào)節(jié),對靶材的種類沒有限制;

              4. 發(fā)展?jié)摿薮?,具有極大的兼容性;

              5. 便于清潔處理,可以制備多種薄膜材料。



              脈沖激光沉積系統(tǒng)特點及優(yōu)勢

              可根據(jù)客戶需求定制產(chǎn)品,靈活性高,并提供專業(yè)的技術(shù)支持;靶臺可以安裝6個靶位,靶材更換靈活;樣品臺樣品尺寸從10x10mm樣品到2英寸樣品均適用;進樣室可以存儲多個靶和樣品;交易過程無需繁瑣的進、出關(guān)手續(xù), 交貨期短,性價比高;

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              常規(guī)沉積條件下的組合合成

              脈沖激光沉積系統(tǒng)特點及優(yōu)勢:

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